[发明专利]一种含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器在审

专利信息
申请号: 201910850276.1 申请日: 2019-09-10
公开(公告)号: CN110707527A 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: 徐刚毅;何力;朱海卿;朱欢;常高垒;俞辰韧;王凯;白弘宙;王芳芳;陈建新;林春 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01S5/12 分类号: H01S5/12;H01S5/343
代理公司: 31311 上海沪慧律师事务所 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 天线耦合器 太赫兹量子级联激光器 种子激光 圆偏振 单模 激光 单片集成器件 分布反馈式 光栅 槽孔天线 金属波导 圆偏振态 种子光源 激光器 光耦合 偏振态 掩埋式 正交的 半波 出射 金属
【说明书】:

一种含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器。其特征在于:所述的含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器整体采用金属‑金属波导结构,激光器包括种子激光区和天线耦合器。种子激光区采用掩埋式一级分布反馈式光栅,天线耦合器采用相互正交的半波槽孔天线组成阵列。种子激光区产生太赫兹种子光源并将光耦合进入天线耦合器,天线耦合器使太赫兹激光倾斜出射,同时调节激光的偏振态至圆偏振态。本发明实现了含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器,属于单片集成器件,适应于更复杂的工作环境。

技术领域

本发明涉及半导体光电器件应用技术领域,特别设计一种含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器。

背景技术

太赫兹量子级联激光器(THz-QCL)是一种在太赫兹波段具有很强竞争力的相干光源,具有体积小、易集成、频率覆盖范围宽、能量转换效率高等优点,在高速通信、频谱分析、物质检测和成像等领域,具有重要的应用前景。其中偏振态是激光的一个重要参数,操纵辐射偏振态的能力在电磁波谱中具有广泛的应用,如推断非对称分子的构型和构象、实现广角全息图等。

对于太赫兹光的偏振态控制,常用的方法是采用波片的外部光学部件来操纵量子级联激光器发射面的固有线偏振以获得所需的偏振态。然而,这种外部操纵装置既庞大又昂贵。控制太赫兹光偏振态的另一个方向是,设计单片集成的太赫兹圆偏振量子级联激光器。由于量子级联激光器的优点,集成的器件所占体积小,无需外部光路,能适应于更复杂的工作环境。但是由于对太赫兹激光偏振态进行调控的同时,改变了激光器腔体的结构,容易产生对激光器的干扰,导致激光器无法实现单模运行。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器,用以实现单模运行和圆偏振的太赫兹激光出射。

为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供了一种含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器。

一种含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器。其特征在于:所述的含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器采用金属-金属波导结构,该结构从下至上具体为:衬底层1、下电极层2、有源区层3及上电极层4。所述的衬底层1的材料为n型掺杂GaAs材料;所述的下电极层2及上电极层4的材料为Ti和Au复合材料,Ti与有源区层3相邻,Ti的厚度为10-20nm,下电极层2Au的厚度为800-1000nm,上电极层4Au的厚度为500-1000nm。所述的有源区层3是常规的太赫兹量子级联激光器所用的有源区结构。所述的激光器包括种子激光区和天线耦合器。种子激光区采用掩埋式一级分布反馈式光栅结构,天线耦合器采用相互正交的半波槽孔天线组成阵列。种子激光区产生太赫兹种子光源并将光耦合进入天线耦合器,天线耦合器使太赫兹激光倾斜出射,同时调节激光的偏振态至圆偏振态。所述的含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器是单片集成器件。

种子激光区结构是掩埋式光栅,光栅为一阶光栅。制备方法是通过硫酸腐蚀液在有源区表面腐蚀深度为400-700nm的狭缝,在表面生长上电极层4。光栅周期为14-18μm,光栅狭缝宽度为2-8μm,光栅周期个数为40-100。

天线耦合器采用光刻长金技术形成槽孔天线阵列,天线相互正交,与激光器脊条方向成45°,天线的长度为15-18μm,宽度为3-7μm,横向周期为33-39μm,纵向周期为21-26μm,正交天线之间的距离为9-18μm,横向周期个数为8-20,纵向周期个数为5-15。

本发明实现了含有天线耦合器的圆偏振单模太赫兹量子级联激光器,属于单片集成器件,适应于更复杂的工作环境。

附图说明:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所,未经中国科学院上海技术物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910850276.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top