[发明专利]显示基板及其控制方法、和显示装置在审

专利信息
申请号: 201910851576.1 申请日: 2019-09-10
公开(公告)号: CN110556408A 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 赵德海;陈禹鹏;田雪松;张志广 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L27/15;G09G3/32;G09G3/3233
代理公司: 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 衬底基板 显示基板 显示装置 正投影区域 感光电路 感光元件 像素单元 子像素 显示效果 不重合 像素 发光 检测
【说明书】:

发明提供一种显示基板及其控制方法、和显示装置,其中,显示基板,包括衬底基板、以及形成于所述衬底基板上的感光电路和多个像素单元,每个像素单元包括多个子像素,所述感光电路包括用于检测子像素发光亮度的感光元件,所述感光元件在所述衬底基板上的正投影区域与所述子像素在所述衬底基板上的正投影区域不重合。本发明提供的显示基板及其控制方法、和显示装置,能够提高显示装置的显示效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板及其控制方法、和显示装置。

背景技术

随着科技的发展和人们生活水平的不断进步,显示装置已经成为人们日常生活中不可获取的设备。相关技术中,由于显示基板制造工艺的不稳定性,导致多个像素之间的驱动晶体管的阈值电压、迁移率、电致发光元件的驱动电压等存在差异,从而导致电致发光元件的驱动电流不同,使得各像素单元中的电致发光元件出现发光亮度不一致的现象,即Mura现象,降低了显示装置的显示效果。

发明内容

本发明实施例提供一种显示基板及其控制方法、和显示装置,以解决相关技术中显示装置出现Mura现象,降低显示装置显示效果的问题。

为了解决上述技术问题,本发明提供技术方案如下:

第一方面,本发明实施例提供一种显示基板,包括衬底基板、以及形成于所述衬底基板上的感光电路和多个像素单元,每个像素单元包括多个子像素,所述感光电路包括用于检测子像素发光亮度的感光元件,所述感光元件在所述衬底基板上的正投影区域与所述子像素在所述衬底基板上的正投影区域不重合。

进一步地,所述感光元件包括:

形成于所述衬底基板上的第一电极;

设置于所述第一电极背离所述衬底基板一侧的感光层。

进一步地,所述子像素包括:

形成于所述衬底基板上的第二电极,所述第二电极与所述第一电极同层且同材料设置;

设置于所述第二电极背离所述衬底基板一侧的发光层。

进一步地,所述感光元件位于相邻两个子像素之间;或者,

所述感光元件位于四个矩阵排列的子像素的中心位置。

进一步地,每个像素单元包括沿行方向排列的一个红色子像素、一个蓝色子像素和两个绿色子像素,其中,两个所述绿色子像素之间为一个所述红色子像素或一个所述蓝色子像素。

进一步地,所述感光电路还包括补偿电路,所述补偿电路包括预设电压端、比较器和驱动电路;

所述感光元件还用于将检测到的目标子像素的发光亮度转换为对应的反馈电压后提供给所述比较器,所述感光元件在所述衬底基板上的正投影区域与所述目标子像素在所述衬底基板上的正投影区域相邻;

所述预设电压端,用于将预设电压提供给所述比较器;

所述比较器,用于基于所述反馈电压和所述预设电压确定补偿电压;

所述驱动电路,用于将所述补偿电压提供给所述目标子像素,以将所述目标子像素在该帧显示时段的发光亮度调整至预设亮度。

第二方面,本发明实施例还提供一种显示装置,如上所述的显示基板。

第三方面,本发明实施例还提供一种如上所述的显示基板的控制方法,所述方法包括:

获取所述感光元件检测到的目标子像素的发光亮度,所述感光元件在所述衬底基板上的正投影区域与所述目标子像素在所述衬底基板上的正投影区域相邻;

控制驱动电路输出与检测到的所述目标子像素的发光亮度对应的补偿电压,以将所述目标子像素在该帧显示时段的发光亮度调整至预设亮度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910851576.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top