[发明专利]糖化设备清洗方法

权利要求书

1.一种糖化设备清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

判断结垢情况：当糖化设备内壁的垢层呈黄色，且厚度为0.05～0.10mm且不包含0.10mm时，判断其为轻垢；当糖化设备内壁的垢层呈棕色或棕褐色，且厚度为0.10～0.50mm时，判断其为重垢；

清洗：当判断为轻垢时，采用复合CIP清洗；当判断为重垢时，采用强化除垢清洗；

所述强化除垢清洗包括以下步骤：

S11、碱液清洗：对糖化设备冲水清洗，用碱液循环冲洗，再冲水至洗液的pH值为6.5～7.5；

S12、酸液清洗：用酸液循环冲洗，再冲水至洗液的pH值为6.5～7.5；

S13、强化碱液清洗：用强化碱液循环冲洗，该强化碱液包括碱性化合物和次氯酸钠，次氯酸钠的浓度为200～600ppm；

S14、复合碱液清洗：用复合碱液循环冲洗，该复合碱液包括碱性化合物、EDTA和非离子表面活性剂，再冲水至洗液的pH值为6.5～7.5；

所述复合CIP清洗包括以下步骤：

S21、碱液清洗：对糖化设备冲水清洗，用碱液循环冲洗，再冲水至洗液的pH值为6.5～7.5；

S22、酸液清洗：用酸液循环冲洗，再冲水至洗液的pH值为6.5～7.5；

S23、复合碱液清洗：用复合碱液循环冲洗，该复合碱液包括碱性化合物、EDTA和非离子表面活性剂，再冲水至洗液的pH值为6.5～7.5。

2.根据权利要求1所述的糖化设备清洗方法，其特征在于，所述碱性化合物选自：NaOH和KOH中的一种或两种。

3.根据权利要求2所述的糖化设备清洗方法，其特征在于，所述强化碱液和复合碱液中的碱性化合物的质量浓度均为2.0％～3.0％。

4.根据权利要求1～3任一项所述的糖化设备清洗方法，其特征在于，在所述强化除垢清洗和复合CIP清洗步骤中，所述碱液为2.0％～3.0％质量浓度的氢氧化钠溶液，所述酸液为0.5％～1.0％质量浓度的硝酸溶液。

5.根据权利要求4所述的糖化设备清洗方法，其特征在于，在所述S11碱液清洗和S21碱液清洗步骤中，碱液循环冲洗的流量为40～100m³/h，循环温度为80～85℃，循环时间为30～60min。

6.根据权利要求5所述的糖化设备清洗方法，其特征在于，在所述S13强化碱液清洗步骤中，强化碱液循环冲洗的流量为40～100m³/h，循环温度为80～85℃，循环时间为60～240min。

7.根据权利要求5或6所述的糖化设备清洗方法，其特征在于，在所述S14复合碱液清洗和S23复合碱液清洗步骤中，所述EDTA的浓度为2000～4000ppm。

8.根据权利要求7所述的糖化设备清洗方法，其特征在于，在所述S14复合碱液清洗和S23复合碱液清洗步骤中，所述非离子表面活性剂选自：辛基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚中的一种或多种，所述非离子表面活性剂的浓度为200～500ppm。

9.一种权利要求1～8任一项所述的糖化设备清洗方法在清洗不锈钢糖化设备中的应用。