[发明专利]一种图像去雨方法、装置、设备和计算机可读存储介质有效
申请号: | 201910854205.9 | 申请日: | 2019-09-10 |
公开(公告)号: | CN110570376B | 公开(公告)日: | 2022-05-20 |
发明(设计)人: | 王世安 | 申请(专利权)人: | 广州工程技术职业学院 |
主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00;G06T5/50;G06K9/62;G06N3/04;G06V10/82;G06V10/74 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 沈闯 |
地址: | 510000 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 图像 方法 装置 设备 计算机 可读 存储 介质 | ||
1.一种图像去雨方法,其特征在于,包括:
根据预置分块方法对获取到的待去雨图像进行分块,得到多个待去雨图像分块;
基于预置滤波器对所述待去雨图像进行N次卷积处理,得到N张卷积图像,其中N=1,2,3…n;
根据所述预置分块方法对每一所述卷积图像进行分块,得到每一所述卷积图像对应的多个卷积图像块;
拼接多个所述待去雨图像分块和多个所述卷积图像块,得到扩展矩阵;
根据所述扩展矩阵中的列元素重新确定多个所述待去雨图像分块,并执行后续步骤;
基于相似性度量模型,根据块匹配算法在空间域中匹配到每一所述待去雨图像分块对应的相似块,其中每一所述相似块的相似度值大于预置相似度阈值,所述相似度值由所述相似性量模型计算得到;
拼接每一所述待去雨图像分块和对应的相似块,得到对应的低秩矩阵;
根据低秩矩阵逼近模型逼近所述低秩矩阵,得到待去雨图像分块对应的去雨图像分块,并确定每一去雨图像分块对应的合成图像分块;
合成所有所述合成图像分块,得到所述待去雨图像的去雨图像。
2.根据权利要求1所述的图像去雨方法,其特征在于,所述根据所述扩展矩阵中的列元素重新确定多个所述待去雨图像分块之前还包括:
根据主成分分析法对所述扩展矩阵进行降维处理。
3.根据权利要求1所述的图像去雨方法,其特征在于,所述合成所有所述合成图像分块,得到所述待去雨图像的去雨图像具体包括:
根据每一所述去雨图像分块对应的相似块的相似度值,确定每一所述合成图像分块的合成系数;
根据所有所述合成系数,合成所有所述合成图像分块,得到所述待去雨图像对应的去雨图像。
4.一种图像去雨装置,其特征在于,包括:
第一分块单元,用于根据预置分块装置对获取到的待去雨图像进行分块,得到多个待去雨图像分块;
卷积单元,用于基于预置滤波器对所述待去雨图像进行N次卷积处理,得到N张卷积图像,其中N=1,2,3…n;
第二分块单元,用于根据所述预置分块装置对每一所述卷积图像进行分块,得到每一所述卷积图像对应的多个卷积图像块;
第二拼接单元,用于拼接多个所述待去雨图像分块和多个所述卷积图像块,得到扩展矩阵;
重新确定单元,用于根据所述扩展矩阵中的列元素重新确定多个所述待去雨图像分块,并执行后续步骤;
匹配单元,用于基于相似性度量模型,根据块匹配算法在空间域中匹配到每一所述待去雨图像分块对应的相似块,其中每一所述相似块的相似度值大于预置相似度阈值,所述相似度值由所述相似性量模型计算得到;
第一拼接单元,用于拼接每一所述待去雨图像分块和对应的相似块,得到对应的低秩矩阵;
逼近单元,用于根据低秩矩阵逼近模型逼近所述低秩矩阵,得到待去雨图像分块对应的去雨图像分块,并确定每一去雨图像分块对应的合成图像分块;
合成单元,用于合成所有所述合成图像分块,得到所述待去雨图像的去雨图像。
5.根据权利要求4所述的图像去雨装置,其特征在于,还包括:
降维单元,用于根据主成分分析法对所述扩展矩阵进行降维处理。
6.根据权利要求4所述的图像去雨装置,其特征在于,所述合成单元具体包括:
合成系数计算子单元,用于根据每一所述去雨图像分块对应的相似块的相似度值,确定每一所述合成图像分块的合成系数;
合成子单元,用于根据所有所述合成系数,合成所有所述合成图像分块,得到所述待去雨图像对应的去雨图像。
7.一种图像去雨设备,其特征在于,包括处理器以及存储器;
所述存储器用于存储程序代码,并将所述程序代码传输给所述处理器;
所述处理器用于根据所述程序代码中的指令执行权利要求1至3中任一项所述的图像去雨方法。
8.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质用于存储程序代码,所述程序代码用于执行权利要求1至3中任一项所述的图像去雨方法。
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