[发明专利]纺织品表面黏着性沾染核素去污剂及其制备方法在审
申请号: | 201910855465.8 | 申请日: | 2019-09-11 |
公开(公告)号: | CN110452779A | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | 水立军;姜海英;孙晶晶;林康文 | 申请(专利权)人: | 郑州华核新材料科技有限公司 |
主分类号: | C11D1/83 | 分类号: | C11D1/83;C11D3/60;C11D3/386;C11D3/22;C11D3/04 |
代理公司: | 41143 郑州隆盛专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 鲍立阳<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 452370河南省郑州市新密市曲梁镇密杞路与人和*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 去污 核电 放射性核素污染 复合表面活性剂 纺织品表面 重量百分比 环境友好 酶稳定剂 络合剂 酶制剂 去污剂 无残留 黏着性 漂洗 沾染 无损 制备 纺织品 | ||
本发明涉及核电去污技术领域,尤其涉及一种纺织品表面黏着性沾染核素去污剂及其制备方法,由以下重量百分比的原料制成:复合表面活性剂12~18wt%、络合剂15~20wt%、酶制剂8~14wt%、酶稳定剂5~8wt%、Ph调节剂和余量的水,可满足和核电纺织品的去污,尤其是放射性核素污染有优异的去污效果,且不含有害成分、环境友好、去污后对织物无损、易漂洗、无残留。
技术领域
本发明涉及核电去污技术领域,尤其涉及一种纺织品表面黏着性沾染核素去污剂及其制备方法。
背景技术
核电纺织品去污传统常用的去污剂配方,液体:0.1%LAS加0.5%SHMP。粉末:24%LAS、47.8%焦磷酸钠或SHMP,2%CMC,24.4%硫酸钠混合,使用浓度0.25~5%。存在去污效率低,废水处理难度大。
核电纺织品去污按去污介质可分为干法去污、半干法去污、湿法去污三种去污方法:1)干法去污:干法去污既不使用水等极性溶剂,也不使用溶于极性溶剂的去污剂,最常用的方法包括拍打、抖拂、扫除和真空吸尘等。干法去污在纺织品去污中尤其对气溶胶粉尘沾染相当重要。在任何情况下,干法去污都有效,去污可达30%-50%,去污效果取决于纺织品的种类、沾染物的特性和污染水平等。干法去污对个人而言,实施简单。但应注意干法去污时不能再潮湿环境下进行,否则影响去污效果。2)半干法去污,和其它表面一样,纺织品的半干法去污是使用泡沫。泡沫通过海绵或泡沫发生器产生,干涩后的泡沫如不黏的话,可通过拍打,或干刷泡沫层的方法除掉;还可以使用约2 cm后的泡沫层作用与沾染表面几分钟,再用真空吸尘器吸掉。这种去污方法去污效率可高达70-80%,但因织物的特性、沾染物的组成和特性以及泡沫的去除方法不同而不同。该方法的优点是简单,几乎无废水产生,缺点是去污效率低。3)湿法去污,湿法去污是将被沾染的纺织品浸入溶液(或水)中进行去污的一种方法,又称为洗涤去污。其优点是去污效率高95%-99%。
目前市场上用于核电纺织品去污的专用去污剂大多从法国和德国进口,供货周期长、价格昂贵、产品单一。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中的不足,提供一种纺织品表面黏着性沾染核素去污剂及其制备方法,可满足和核电纺织品的去污,尤其是放射性核素污染有优异的去污效果,且不含有害成分、环境友好、去污后对织物无损、易漂洗、无残留。
本发明是通过以下技术方案实现的:一种纺织品表面黏着性沾染核素去污剂,由以下重量百分比的原料制成:复合表面活性剂12~18wt%、络合剂15~20wt%、酶制剂8~14wt%、酶稳定剂5~8wt%,Ph调节剂和余量的水,
所述复合表面活性剂由重量比1:2~4的阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂制成,所述阴离子表面活性剂是由脂肪醇醚硫酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚羧酸和烷基苯磺酸中以任意比例混合,所述非离子表面活性剂为丙二醇嵌段聚醚与脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9以任意比例混合;
所述络合剂由甲基甘氨酸二乙酸三钠、二乙烯三胺五乙酸、亚氨基二琥珀酸钠组成,甲基甘氨酸二乙酸三钠和二乙烯三胺五乙酸的重量相同,甲基甘氨酸二乙酸三钠和二乙烯三胺五乙酸的重量之和与亚氨基二琥珀酸钠的重量比为1:0.5-2;
所述酶制剂为蛋白酶和脂肪酶以任意比例混合;
所述酶稳定剂为硼酸和海藻糖以任意比例混合;
Ph值为9.0-9.6。
进一步地,所述复合表面活性剂由重量比1:2~3的阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂制成。
进一步地,所述阴离子表面活性剂由重量比为1~4:1~3.5之间脂肪醇醚硫酸钠和烷基苯磺酸,以及任意比例的脂肪醇聚氧乙烯醚羧酸混合而成。
进一步地,所述酶稳定剂为硼酸或者重量比4:1的硼酸与海藻糖组合物。
进一步地,所述PH调节剂为氢氧化钾或柠檬酸。
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