[发明专利]闪耀光栅及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种闪耀光栅的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

采用第一抗蚀剂在衬底上形成第一抗蚀层；

将所述第一抗蚀层进行曝光和显影，形成具有图案的所述第一抗蚀层；

在所述衬底上形成金属层，且所述金属层遮盖所述第一抗蚀层；

去除所述第一抗蚀层，得到具有多个间隔排列的金属条的所述金属层；

采用第二抗蚀剂在所述衬底上形成具有多个抗蚀条的第二抗蚀层，多个所述抗蚀条与多个所述金属条交替排列，且每个所述抗蚀条与相邻的一个所述金属条连接并构成一个图案单元，多个所述图案单元间隔排列，且每个所述图案单元中的所述金属条具有相对的第一边缘与第二边缘，所述抗蚀条的中心线位于所述金属条的所述第一边缘和所述第二边缘之间，或者所述抗蚀条的中心线与所述第一边缘重合，且所述抗蚀条的边缘均不超过所述第二边缘；

从所述衬底形成有所述第二抗蚀层的一侧对所述衬底进行离子刻蚀，以使所述第二抗蚀层被刻蚀，并使所述衬底上形成多个斜面；及

去除所述衬底上的所述金属层，得到闪耀光栅；

其中，所述去除所述第一抗蚀层，得到具有多个间隔排列的金属条的所述金属层的步骤具体为：去除所述第一抗蚀层及形成在所述第一抗蚀层表面的金属层，留下直接形成在所述衬底上的金属层，得到具有多个金属条的所述金属层。

2.根据权利要求1所述的闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述第二抗蚀层的厚度为100nm～500nm。

3.根据权利要求1或2所述的闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述抗蚀条的宽度为50nm～2μm。

4.根据权利要求1所述的闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述从所述衬底形成有所述第二抗蚀层的一侧，对所述衬底进行离子刻蚀的步骤中，刻蚀气体包括CHF₃，所述CHF₃的流量为60sccm～90sccm，所述刻蚀气体还包括O₂和SF₆中的至少一种，所述O₂的流量为0sccm～30sccm，所述SF₆的流量为0sccm～10sccm，且所述O₂的流量与所述SF₆的流量不同时为0，刻蚀功率为100W～1200W。

5.根据权利要求1或4所述的闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述从所述衬底形成有所述第二抗蚀层的一侧，对所述衬底进行离子刻蚀的步骤中，压强为3mTorr～50mTorr。

6.根据权利要求1所述的闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述将所述第一抗蚀层进行曝光和显影的步骤中，曝光剂量为1C/m²～10C/m²，显影液为体积比为1:1～3:1的异丙醇与甲基异丁基甲酮的混合液，显影时间为1分钟～5分钟。

7.根据权利要求1所述的闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述金属层的材料选自铬、铝及钛中的至少一种；及/或，

所述去除所述第一抗蚀层的步骤中，所用的试剂为去胶剂，所述去胶剂选自丙酮、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮及二价酸酯中的至少一种；及/或，

所述去除所述衬底上的所述金属层的步骤中，采用去铬液、王水及盐酸中的至少一种去除所述金属层。

8.一种闪耀光栅，其特征在于，所述闪耀光栅由权利要求1～7任一项所述的闪耀光栅的制备方法制备得到。

9.根据权利要求8所述的闪耀光栅，其特征在于，所述闪耀光栅包括多个光栅单元，多个所述光栅单元间隔排列，每个所述光栅单元的高度为50nm～1μm，且所述光栅单元的截面为直角梯形，所述直角梯形的斜角大于40°且小于100°。

10.权利要求8或9所述的闪耀光栅在制备智能眼镜中的应用。