[发明专利]一种高分子阻燃剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种高分子阻燃剂，其特征在于，所述高分子阻燃剂包括光稳定剂、引发剂、活性剂以及具有式I结构的含磷阻燃剂：

其中，L₁、L₂各自独立地选自含有末端乙烯基的基团；

Z₁、Z₂各自独立地选自含磷基团；

M₁选自直链亚烷基、支链亚烷基或亚芳香基；

M₂选自满足化学环境的任意有机基团；

Y₁、Y₂各自独立地选自惰性基团、硫原子、氧原子、-OH或-H；

X₁选自满足化学环境的任意亚有机基团；

a、b、c、d、f、g、h各自独立地选自0～5的整数，且a、b不同时为0，f、g不同时为0，g、h不同时为0，同时，b+c+h≤5且a+d+g≤5；

e为0～100的整数。

2.根据权利要求1所述的高分子阻燃剂，其特征在于，所述高分子阻燃剂包括1-5重量份的光稳定剂、1-3重量份的引发剂、1-3重量份的活性剂、以及30-70重量份的具有式I结构的含磷阻燃剂。

3.根据权利要求1或2所述的高分子阻燃剂，其特征在于，所述光稳定剂包括光稳定剂622、光稳定剂770或光稳定剂944中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述引发剂包括有机过氧化物引发剂、无机过氧化物引发剂、偶氮类引发剂或氧化还原引发剂中的其中一种或至少两种的组合，优选偶氮类引发剂；

优选地，所述引发剂为偶氮二异丁腈；

优选地，所述活性剂包括乙二胺四乙酸二钠；

优选地，所述高分子阻燃剂还包括加工助剂；

优选地，以含磷阻燃剂的添加量为30-70重量份计，所述加工助剂的添加量为1-2重量份；

优选地，所述加工助剂包括抑烟剂、协效剂、抑烟剂或抗氧化剂中的任意一种或至少两种的组合。

4.根据权利要求1-3任一项所述的高分子阻燃剂，其特征在于，所述Z₁、Z₂各自独立地选自R₁为饱和或不饱和烷基、芳基或杂芳基中的任意一种，进一步优选甲基、乙基或苯基；

优选地，所述M₁选自C1-C30的直链或支链亚烷基、C6-C30的亚芳基或C5-C7的亚杂芳基，进一步优选C1-C5的直链亚烷基、C3-C5的支链亚烷基或苯基，更进一步优选C1-C3的直链亚烷基、C3的支链亚烷基或苯基；

优选地，所述M₂选自N、S、C1-C30的直链或支链烷基、C6-C30的芳基、C5-C7的杂芳基、其中，R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈、R₉各自独立地选自C1-C10的直链或支链亚烷基，L₂、Y₂、Z₂连接在R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈、R₉的任意可连接位置，n、m、i、k各自独立地选自0-100的整数；

优选地，Y₁、Y₂各自独立地选自-H或氧原子；

优选地，所述X₁选自N、S、取代或未取代的C1-C30的直链或支链亚烷基、取代或未取代的C6-C30的亚芳基、取代或未取代的C5-C7的亚杂芳基、取代或未取代的C1-C30的亚烷基胺基、取代或未取代的C1-C30的亚烷基酰基、取代或未取代的C1-C30的亚烷基酯基、取代或未取代的C6-C30的亚芳基胺基、取代或未取代的C6-C30的亚芳基酰基或C6-C30的亚芳基酯基，进一步优选取代或未取代的C1-C5的直链或支链亚烷基、取代或未取代的C1-C5的亚烷基胺基、取代或未取代的C1-C5的亚烷基酰基或取代或未取代的C1-C5的亚烷基酯基，更进一步优选-NH-R-、-R'-NH-、-R”-O-、-R_V-C(O)-、取代或未取代的C1-C5的直链或支链亚烷基，其中，R、R'、R”、R_V各自独立地选自取代或未取代的C1-C10的直链或支链亚烷基。