[发明专利]基于深浅层根胁迫处理的水稻双筒抗旱鉴定装置和方法

说明书

本发明属于农作物抗性鉴定技术领域，公开了基于深浅层根胁迫处理的水稻双筒抗旱鉴定装置和方法，装置包括栽培装置和培养套筒，且栽培装置置于培养套筒正上方且中心轴重合，还包括箱体和控制阀。通过上述装置进行水稻抗旱鉴定的方法包括：播种和发芽、灌沙和移栽、栽培和处理，根据水稻的苗期、分蘖期、开花期或灌浆期分别控制培养套筒内外根系的生长环境进行胁迫处理，并定期观察记录生长数据及内筒和外筒根量。本发明的套筒式结构简单且独特，深根全部落入内筒中，浅根全部落入外筒里，经分析深浅层根各自生物学功能可为区块化研究根系功能提供技术支撑。

技术领域

本发明属于农作物抗性鉴定技术领域，具体涉及一种基于深浅层根胁迫处理的水稻双筒抗旱鉴定装置和方法，通过对水稻的深层根和浅层根分别进行胁迫处理实现区块化研究根系。

背景技术

植物根系具有特有的形态特征如根系分布的密度、深度和范围等，这些特征对植物的抗逆尤其是抗旱胁迫具有重大影响，因此开展根系结构研究并细化不同位置根胁迫对植物的影响具有重要实践意义。而现有的栽培和观察手段都无法对深层根和浅层根分别进行处理和调查，通过文献和专利也未见有相似技术报道。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种基于深浅层根胁迫处理的水稻双筒抗旱鉴定装置，针对水稻不同角度深浅层根分别进行胁迫处理培养进行特殊设计得到，用于水稻根系结构研究，特别是细化不同位置根胁迫对水稻生长的影响。

本发明的另一目的在于提供通过上述水稻双筒抗旱鉴定装置进行水稻抗旱鉴定的方法，步骤简单、方法独特，便于观察和分析不同生长期的水稻深层根和浅层根在不同生长环境中的变化。

本发明的上述发明目的通过以下技术方案实现：

第一方面，本发明的基于深浅层根分别胁迫处理的水稻双筒抗旱鉴定装置，包括：

栽培装置，为圆形平底且表面均匀带孔的米篮式结构；

培养套筒，由相互隔离的底部带有通水口Ⅰ的外筒和底部带有通水口Ⅱ的内筒组成，所述内筒内径与所述栽培装置圆形平底的直径相同，所述外筒内径与所述栽培装置上沿直径相同；其中：

所述栽培装置置于所述培养套筒正上方，其圆形平底与所述内筒口紧密接触，且保持所述外筒、内筒和所述栽培装置的中心轴重合；所述栽培装置高度小于所述内筒与所述外筒的高度差；

还包括：用于放置所述培养套筒的箱体，以及控制所述通水口Ⅰ和所述通水口Ⅱ进出水/或营养液的控制阀。

进一步，所述箱体的底面积大于所述培养套筒的底面积，同时可放置多个培养筒，箱体高度不低于所述通水口的高度，可根据处理需要水位高低自行设置。

进一步，所述栽培装置的高度小于所述内筒与所述外筒的高度差至少3cm。

进一步，所述通水口Ⅱ位于所述内筒底侧壁，且连接有PVC管外延穿过所述外筒壁，所述通水口Ⅱ与所述外筒相互隔离，所述PVC管连接有软管。

进一步，所述栽培装置的材质为塑料或不锈钢材料。

进一步，所述控制阀为夹子。

第二方面，一种水稻抗旱鉴定方法，通过上述水稻双筒抗旱鉴定装置进行水稻抗旱鉴定，包括以下步骤：

ⅰ)播种和发芽：挑选饱满的水稻种子，清水浸泡后常温发芽；

ⅱ)灌沙和移栽：筛选颗粒均匀的沙土，装入所述培养套筒内至高度达到所述内筒上沿，将所述栽培装置底面平放至所述内筒上，浇水后加沙至沙子高度与所述栽培装置上沿齐平；

ⅲ)栽培和处理：挑选强壮整齐的水稻幼苗，移栽到所述栽培装置正中心，播种深度1-3cm，在水稻正常生长的温度和光照环境下正常栽培生长1-40天，期间定期加入营养液或肥料，