[发明专利]一种溅射成膜装置

说明书

本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其涉及一种溅射成膜装置，其特征在于：所述基板托盘公转转台与一设置在所述真空成膜室外部的公转马达驱动连接并在其驱动下旋转，所述基板托盘自转转台与一设置在所述真空成膜室内部的自转真空马达相驱动连接，所述自转真空马达通过真空导入电极与一设置在所述真空成膜室外部的导电滑环相连接，所述基板托盘自转转台在所述的所述自转真空马达的驱动下旋转。本发明的优点是：实现基板托盘公自转转速比例的调整，可显著提高基板沉积不同镀膜材料膜厚均匀性，可满足高精度低缺陷的薄膜的制备需要；减少采用传动齿轮组时其摩擦振动产生的粉尘，进而减少基板薄膜缺陷的产生。

技术领域

本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其涉及一种溅射成膜装置。

背景技术

光学薄膜通常是指在光学元件（基板）上镀制的一层或多层介质膜或金属膜、或介质膜与金属膜组成的混合膜层。光学薄膜可起到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等作用。

制备光学薄膜常用的方法有两种，一种是溅射法，一种是蒸发法。在溅射法中，通常是利用离子轰击靶材表面，靶材的原子被轰击出来并沉积在基板表面成膜。在蒸发法中，通常是利用电子束或热蒸发的方式使基板表面沉积光学薄膜。

常规成膜装置通过基板托盘（工件盘）公自转结构提高基板表面沉积薄膜的均匀性。基板表面沉积薄膜的均匀性及精度与基板托盘（工件盘）的公自转转速比例，基板托盘公自转转速息息相关。且不同镀膜材料获得高均匀性薄膜所需的公自转转速比例不尽相同。所以常规公自转成膜装置通过追加掩膜板结构修正膜厚，实现基板获得不同镀膜材料高均匀性（高精度）薄膜。

另外，目前常见的公自转成膜装置是利用真空侧齿轮传动实现基板托盘（工件盘）公自转。不过，齿轮传动的公自转结构通常是固定的传动比，无法实现自由调整基板托盘（工件盘）公自转转速比。且基板托盘（工件盘）高速旋转，真空侧齿轮传动易产生粉尘，从而影响薄膜产品的外观，不能满足高品质镀膜需求。

发明内容

本发明的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种溅射成膜装置，通过相独立的两套驱动系统分别驱动基板托盘公转转台和基板托盘自转转台的独立旋转，实现公自转转速比例的精确调整，进而控制基板沉积不同镀膜材料膜厚均匀性；并尽可能减少真空侧齿轮传动的使用，减少薄膜产品的外观缺陷。

本发明目的实现由以下技术方案完成：

一种溅射成膜装置，包括设置在真空成膜室内的基板托盘公转转台、基板托盘自转转台，其中所述基板托盘公转转台可在所述真空成膜室内公转，所述基板托盘自转转台与所述基板托盘公转转台相连接并可在所述真空成膜室内自转，其特征在于：所述基板托盘公转转台与一设置在所述真空成膜室外部的公转马达驱动连接并在其驱动下旋转，所述基板托盘自转转台与一设置在所述真空成膜室内部的自转真空马达相驱动连接，所述自转真空马达通过真空导入电极与一设置在所述真空成膜室外部的导电滑环相连接，所述基板托盘自转转台在所述的所述自转真空马达的驱动下旋转。

所述基板托盘自转转台下方设置若干个子转台，所述子转台分别连接有非接触磁力传动部品，若干个所述子转台可分别通过各自的所述非接触磁力传动部品实现在所述基板托盘自转转台驱动下的多级自转。

所述基板托盘自转转台所承载的基板呈水平放置或竖直放置。

所述公转马达通过传动机构连接所述基板托盘公转转台。

本发明的优点是：实现基板托盘公自转转速比例的调整，可显著提高基板沉积不同镀膜材料膜厚均匀性，可满足高精度低缺陷的薄膜的制备需要；减少采用传动齿轮组时其摩擦振动产生的粉尘，进而减少基板薄膜缺陷的产生。

附图说明

图1为本发明的第一种结构示意图；

图2为本发明的第二种结构示意图；