[发明专利]一种石墨烯薄膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：利用超声雾化喷涂技术将氧化石墨烯分散液喷涂在热基底上，然后将喷涂有氧化石墨烯分散液的基底进行还原，得到石墨烯薄膜。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述氧化石墨烯分散液中，氧化石墨烯的质量浓度为0.1～0.3％。

3.如权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述氧化石墨烯分散液的制备方法包括以下步骤：

(1)将浓硫酸、硝酸钠和石墨混合，得到初级混合料；

(2)将所述初级混合料与高锰酸钾混合，进行氧化反应，然后依次添加水和双氧水，用于终止氧化反应，得到氧化反应分散液；

(3)将所述氧化反应分散液中的固体料与乙醇混合，经离心分离后，得到氧化石墨烯分散液。

4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述浓硫酸、硝酸钠和石墨的质量比为(20～25)：(0.3～0.7)：1；

所述高锰酸钾与石墨的质量比为2.5～4：1；

用于终止氧化反应的双氧水与石墨的质量比为0.5～1.5：1，所述双氧水的质量浓度为28～35％。

5.如权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，对所述氧化石墨烯分散液进行喷涂时，分散液的流量为8～15μL/s；

喷涂速度为25～35mm/s；

喷射距离为30～40mm，喷射距离以喷头至热基底的垂直距离计。

6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述喷涂为多次喷涂，相邻两次喷涂的时间间隔为50～70s。

7.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述热基底的温度为350～500℃。

8.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述还原的温度为550～600℃；还原的时间为30～90min。

9.权利要求1～8任一项所述制备方法制备得到的石墨烯薄膜，其特征在于，所述石墨烯薄膜的透光率为85～92％，电阻为40～65Ω/sq。

10.权利要求9所述的石墨烯薄膜在电子或化工领域的应用。