[发明专利]一种用于蓝宝石研磨的粗磨液

说明书

本发明公开了一种用于蓝宝石研磨的粗磨液，所述粗磨液由以下组分按重量份组成：磨料32～55份、分散剂1～3份、增稠剂1～3份、表面活性剂1～2份、碱性调节剂3～5份、去离子水55～90份；其中，所述磨料为碳化硅、碳化硼、二氧化硅、氧化铝中的一种，莫氏硬度＞9，粒径60～100nm。本发明的粗磨液可用于蓝宝石化学机械抛光(CMP)工艺的粗抛光，抛光效果良好，有效提高了蓝宝石抛光工艺的良品率。

技术领域

本发明属于蓝宝石研磨技术领域，具体涉及一种用于蓝宝石研磨的粗磨液。

背景技术

蓝宝石是一种成分为α-Al₂O₃的单晶，其惰性强、具有良好的透光性和导热性，莫氏硬度高达9，仅次于莫氏硬度为10的金刚石，是一种优良的耐磨材料。蓝宝石具有的优异的光学性能、力学性能和化学稳定性，使其除在LED领域有广泛运用外，还广泛应用于蓝宝石手表、高端手机屏幕、镜头保护片、指纹识别等消费类电子领域。这些领域的应用对蓝宝石器件表面粗糙度、光亮度等指标具有严格的要求，而影响蓝宝石器件表面质量的关键因素是抛光液的性能。但现有的抛光液大都抛光效果差，抛光过程中对蓝宝石表面的损伤较严重，不仅造成表面粗糙度较大，还易出现抛光划痕、凹坑等表面缺陷，已渐渐无法满足蓝宝石加工的要求。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供一种用于蓝宝石研磨的粗磨液，抛光效果良好，有效提高了蓝宝石抛光工艺的良品率。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种用于蓝宝石研磨的粗磨液，所述粗磨液由以下组分按重量份组成：磨料32～55份、分散剂1～3份、增稠剂1～3份、表面活性剂1～2份、碱性调节剂3～5份、去离子水55～90份；其中，所述磨料为碳化硅、碳化硼、二氧化硅、氧化铝中的一种，莫氏硬度＞9，粒径60～100nm。

优选地，所述分散剂为聚乙二醇、环己醇、正丁醇、蓖麻油中的一种。

优选地，所述增稠剂为聚丙烯酸酯、羧甲基纤维素钠、聚丙烯酸钠中的一种。

优选地，所述表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠、三乙醇胺中的一种。

优选地，所述碱性调节剂为氢氧化钠或氢氧化钙。

本发明的有益效果如下：

本发明的粗磨液可用于蓝宝石化学机械抛光(CMP)工艺的粗抛光，抛光效果良好，有效减少了蓝宝石表面抛光划痕、凹坑等缺陷，提高了良品率。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明做进一步阐述。

实施例1

一种用于蓝宝石研磨的粗磨液，由以下组分按重量份组成：磨料32份、分散剂1份、增稠剂1份、表面活性剂1份、碱性调节剂3份、去离子水55份。

磨料采用碳化硅，莫氏硬度＞9，粒径60～80nm。

分散剂采用聚乙二醇。

增稠剂采用聚丙烯酸酯。

表面活性剂采用脂肪醇聚氧乙烯醚。

碱性调节剂采用氢氧化钠。

所述粗磨液的制备方法如下：

将聚乙二醇、聚丙烯酸酯、脂肪醇聚氧乙烯醚依次加入碳化硅中，搅拌均匀后，添加氢氧化钠制得pH为10的粗磨液。

实施例2

一种用于蓝宝石研磨的粗磨液，由以下组分按重量份组成：磨料55份、分散剂3份、增稠剂3份、表面活性剂2份、碱性调节剂5份、去离子水90份。