[发明专利]一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置及控制方法

权利要求书

1.一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，包括供液系统和切割系统，其中，所述供液系统包括供液源、过滤罐和检测仪，所述供液源的输出端与所述过滤罐的输出端连通，并置于所述过滤罐的下方；所述供液源和所述过滤罐经同一管道与所述切割系统连通；所述检测仪置于所述过滤罐内侧下部且置于所述过滤罐输出口上方；所述切割系统包括切割室、喷淋管和回收桶，所述喷淋管置于所述切割室内，所述喷淋管与所述供液源连通，所述回收桶置于所述切割室下方并与所述切割室下端出口连通，所述回收桶与所述过滤罐连通。

2.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，所述过滤罐包括上开口的柱状罐体；在所述罐体侧壁靠近上开口处设有输入口；在所述罐体内壁设有与所述罐体一体成型的环状凸缘，所述凸缘位于所述输入口下方。

3.根据权利要求2所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，在所述罐体内设有过滤结构，所述过滤结构置于所述凸缘下方并与所述凸缘上端面配合；所述过滤结构位于所述检测仪上方。

4.根据权利要求3所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，所述过滤结构包括固定架，在所述固定架下方设有与所述固定架一体设置的滤网支架，沿所述滤网支架内壁设有若干向内延伸的凸台，所述凸台均匀间隔设置。

5.根据权利要求4所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，在所述滤网支架上方设有第一过滤网，所述第一过滤网与所述凸台之间设有空隙；在相邻所述凸台之间设有第二过滤网，所述第二过滤网位于所述滤网支架下端部；所述第一过滤网网孔大于所述第二过滤网网孔。

6.根据权利要求1-5任一项所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，所述供液系统还包括热交换器，所述热交换器置于所述供液源与所述喷淋管之间；所述热交换器的温度为16-18℃。

7.根据权利要求6所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，在所述切割室下部设有导流筒，所述导流筒的出口与所述回收桶的上端口连通。

8.根据权利要求7所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，在所述回收桶内设有水泵，所述水泵的输出端与所述过滤罐的输入端连通。

9.一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置的控制方法，其特征在于，采用如权利要求1-9任一项所述的检测装置，所述供液源依次经过所述热交换器后进入所述切割室内的所述喷淋管中，使用后的切割废液依次经所述导流筒和所述回收桶后输入到所述过滤罐中过滤。

10.根据权利要求9所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置的控制方法，其特征在于，所述检测仪对过滤后的切割液中的硅粉浓度进行检测，若合格继续使用；若不合格，所述供液源根据检测结果再向所述过滤罐补充切割原液。