[发明专利]一种基于RX MASK中心点阵的信号眼图分析方法

权利要求书

1.一种基于RX MASK中心点阵的信号眼图分析方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：获取用于开展分析的存储数据信号仿真眼图；对存储数据信号开展前仿真或者后仿真，针对DDR内存互连拓扑不同参数组合，利用电路级仿真工具，开展至少一次仿真试验获取不同的仿真眼图；

S2：自定义有效RX MASK的规格尺寸；模拟存储数据信号会引入的、可量化的噪声情况，分析这些信号噪声对信号摆幅与时序裕量的影响，以JEDEC标准RX MASK为基础加成获得有效RX MASK的规格尺寸；

S3：以存储数据信号眼图和训练调节步进为基础，编程计算满足有效RX MASK的中心点阵，统计有效RX MASK中心点阵；其中训练调节步进参数包括采样时钟时序调节粒度和参考电源摆幅调节粒度；

S4：基于MASK中心点阵对存储信号眼图进行分析评价；对存储信号眼图进行分析评价的参数包括有效RX MASK判定的中心点数量、分布情况以及面积大小；

S5：评判出所用互连拓扑参数、访存信号通道的优劣，以及对摆幅友好与否或者对时序友好与否，优选互连拓扑参数与访存信号通道，并根据摆幅和时序优先级的权重配比，获得最佳中心点以及对应的摆幅裕量和时序裕量；

执行步骤S3具体包括：

S31：编程计算出存储数据信号眼图内沿迹线；

S32：根据训练步进参数，遍历所有可能的有效RX MASK中心点；

S33：统计位于眼图内侧但与眼图内沿迹线不相交的所有有效RX MASK的中心点；

S34：进行统计，评判存储数据信号眼图的优劣情况；统计内容包括中心点数量和计算中心点阵所占V/T面积。