[发明专利]水膜装置在审

专利信息
申请号: 201910864626.X 申请日: 2019-09-12
公开(公告)号: CN110556321A 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 陈其成;李宝祥 申请(专利权)人: 常州时创能源科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 213300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 出水头 硅片 辊道 光栅 光幕 水膜 控制模组 依次设置 测量 独立出水 节约用水 平行光线 可控制 出水 跨域 料侧 竖向 遮挡 传送 贯穿 配置
【说明书】:

发明公开了一种水膜装置,包括:用于传送硅片的辊道,设于辊道上方的至少一组出水头,可控制各出水头独立出水的出水头控制模组,以及各组出水头分别配置、且用于感应硅片的测量光栅;同一组的出水头沿辊道宽度方向依次设置;测量光栅位于其所对应的一组出水头的来料侧;测量光栅具有由平行光线组成的光幕,各光线竖向贯穿辊道,且各光线沿辊道宽度方向依次设置;光幕在辊道宽度方向上跨域其所对应的一组出水头;所述出水头控制模组,其根据光幕被硅片遮挡的区域,来控制与该区域相对应的出水头出水。本发明水膜装置能适应多种尺寸的硅片,可精确控制不同尺寸硅片的水膜水量,且可达到控制水量与节约用水的目的。

技术领域

本发明涉及水膜装置。

背景技术

在光伏电池制造过程中,需要对硅片背面进行湿法刻蚀,且只刻蚀硅片背面,不希望正面受酸溶液腐蚀,故刻蚀前需要在硅片正面滴一层水膜,通过水膜来保护硅片正面,水膜的水量需控制在覆满整个硅片正面,但又不能覆过满,否则会导致水膜表面张力破坏而漏水的情况。

目前一般采用出水头对辊道上传送的硅片滴加水膜,且在出水头的来料侧设置红外感应装置,红外感应装置采用单光束红外对射,形成一条贯穿辊道的红外线,可通过红外线感应硅片来控制出水头出水,当红外线未被辊道上传送的硅片遮断时,出水头不会出水,当红外线被辊道上传送的硅片遮断时,出水头出水,进而在硅片上形成水膜。

如上所述,目前单个硅片仅通过一条红外线来感应,当辊道上传送的硅片为小片(如条状硅片)时,可能会因为小片行进偏移或是宽度太小,而导致小片未能有效触发红外感应,这会造成小片错过滴水或滴水不足,进而使小片正面的水膜不达标,并导致后续工艺的外观不良。

发明内容

本发明的目的在于提供一种水膜装置,其能适应多种尺寸的硅片。

为实现上述目的,本发明的技术方案是设计一种水膜装置,包括:用于传送硅片的辊道,设于辊道上方的至少一组出水头,可控制各出水头独立出水的出水头控制模组,以及各组出水头分别配置、且用于感应硅片的测量光栅;

同一组的出水头沿辊道宽度方向依次设置;测量光栅位于其所对应的一组出水头的来料侧;测量光栅具有由平行光线组成的光幕,各光线竖向贯穿辊道,且各光线沿辊道宽度方向依次设置;光幕在辊道宽度方向上跨域其所对应的一组出水头;

所述出水头控制模组,其根据光幕被硅片遮挡的区域,来控制与该区域相对应的出水头出水。

优选的,所述测量光栅包括:设于辊道上方的发射器,以及位于辊道下方的受光器。

或者,所述测量光栅包括:设于辊道下方的发射器,以及位于辊道上方的受光器。

优选的,所述硅片的宽度不大于光幕的宽度。

本发明的优点和有益效果在于:提供一种水膜装置,其能适应多种尺寸的硅片。

本发明主要是将现有的单光束红外对射改为光幕,并根据光幕被硅片遮挡的区域,来控制与该区域相对应的出水头出水,故本发明可兼容多种尺寸的硅片,如小片,特别是适应条状硅片。

本发明能控制仅特定位置的出水头出水,可精确控制不同尺寸硅片的水膜水量,且可达到控制水量与节约用水的目的,小片时可节省水膜用水量,例如:1/2片可节省50%用水量, 1/3片可节省66%用水量。

附图说明

图1和图2是本发明的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州时创能源科技有限公司,未经常州时创能源科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910864626.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code