[发明专利]一种封装高速信号过孔优化设计方法在审
申请号: | 201910866272.2 | 申请日: | 2019-09-12 |
公开(公告)号: | CN110676174A | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
发明(设计)人: | 胡晋;金利峰;郑浩;王彦辉;李川;张弓 | 申请(专利权)人: | 无锡江南计算技术研究所 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L21/768 |
代理公司: | 33246 浙江千克知识产权代理有限公司 | 代理人: | 裴金华 |
地址: | 214100 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 高速信号 封装 反焊盘 孔盘 阻抗 高速信号传输 多维参数 封装引脚 回波损耗 优化设计 阻抗扫描 最小孔径 不连续 连接盘 反盘 盘径 优化 | ||
1.一种封装高速信号过孔优化设计方法,其特征在于,包括:
(1)、对过孔连接盘的最小孔径进行设计;
(2)、对过孔反焊盘的盘径进行设计;
(3)、对过孔反焊盘的深度进行设计;
(4)依据上述设计确定封装高速信号孔盘结构。
2.根据权利要求1所述的一种封装高速信号过孔优化设计方法,其特征在于,所述对过孔连接盘的最小孔径进行设计具体为:根据封装过孔孔径以及封装工艺特性来确定所述对过孔连接盘的最小孔径。
3.根据权利要求1所述的一种封装高速信号过孔优化设计方法,其特征在于,所述对过孔反焊盘的盘径进行设计具体为:固定过孔连接盘的盘径与过孔反焊盘深度初始值,针对所述过孔连接盘的盘径进行阻抗参数扫描,确定所述过孔反焊盘的盘径的最优值。
4.根据权利要求3所述的一种封装高速信号过孔优化设计方法,其特征在于,所述过孔反焊盘深度初始值为根据当前封装基板叠层中采用过孔反焊盘的深度能够达到的最大值。
5.根据权利要求1所述的一种封装高速信号过孔优化设计方法,其特征在于,所述对过孔反焊盘的深度进行设计具体为:根据固定过孔连接盘的盘径与过孔反焊盘的盘径,针对过孔反焊盘的深度进行阻抗参数扫描,确定过孔反焊盘深度最优值。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡江南计算技术研究所,未经无锡江南计算技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910866272.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体器件结构及其形成方法
- 下一篇:一种键合工艺制作大锡球的方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造