[发明专利]用于熔合工件的方法有效
申请号: | 201910870185.4 | 申请日: | 2015-03-05 |
公开(公告)号: | CN110538996B | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | J.巴克伦;T.洛克 | 申请(专利权)人: | 阿卡姆股份公司 |
主分类号: | B22F10/28 | 分类号: | B22F10/28;B22F10/30;B22F12/00;B22F12/41;B23K26/06;B23K26/073;B23K26/342;B29C64/153;B29C64/386;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/02;G02B27/09 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张健;申屠伟进 |
地址: | 瑞典默*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 熔合 工件 方法 | ||
1.一种用于通过接续地安置被熔合在一起以形成三维物件的粉末材料的个体层来形成所述物件的装置,所述装置包括:
至少一个高能量射束源,用于发射高能量射束以用于执行下述至少一项:加热或熔合所述粉末材料;
用于在所述粉末材料上偏转高能量射束的偏转源;
用于将所述高能量射束聚焦在所述粉末材料上以便形成高能量射束斑的聚焦透镜;
至少一个散光透镜;以及
至少一个控制器,被配置成控制所述至少一个散光透镜,以便在粉末层上将所述高能量射束斑成形为使得:所述高能量射束斑在所述粉末层上的形状在与所述高能量射束的偏转方向平行的方向上比在与所述高能量射束的所述偏转方向垂直的方向上更长,
其中:
在所述粉末材料上所述高能量射束的扫描期间或者在所述粉末材料上所述高能量射束的接续扫描之间,所述平行方向上所述高能量射束斑的长度与所述垂直方向上所述高能量射束斑的宽度之比作为所述能量射束在工件上的功率的函数而变化;并且
所述垂直方向上所述高能量射束斑的所述宽度是恒定值。
2.根据权利要求1所述的装置,其中所述高能量射束是电子束或激光束中的至少一个。
3.根据权利要求1所述的装置,其中所述偏转源是可倾斜镜。
4.根据权利要求1所述的装置,其中所述偏转源是可倾斜透镜。
5.根据权利要求1所述的装置,其中所述偏转源是偏转线圈。
6.根据权利要求1所述的装置,其中所述平行方向上所述高能量射束斑的所述长度与所述垂直方向上所述高能量射束斑的所述宽度之比还作为所述高能量射束在所述工件上的位置的函数而变化。
7.根据权利要求1所述的装置,其中所述能量射束在与所述偏转方向平行的方向上同与所述偏转方向垂直的方向相比至少五倍长。
8.根据权利要求1所述的装置,其中所述能量射束在与所述偏转方向平行的方向上同与所述偏转方向垂直的方向相比至少十倍长。
9.根据权利要求1所述的装置,其中对于全扫描长度、全横截面和/或对于全3维物件,与扫描方向垂直的方向上所述工件上的平均斑大小小于与扫描方向平行的方向上所述工件上的平均斑大小。
10.一种非暂时性计算机可读存储介质,用于通过接续地安置被熔合在一起以形成三维物件的粉末材料的个体层来形成所述物件,所述非暂时性计算机可读存储介质其中存储有计算机可读程序代码部分,所述计算机可读程序代码部分包括被配置成执行下述操作的一个或多个可执行部分:
操纵至少一个高能量射束源,用于发射高能量射束以用于执行下述至少一项:加热或熔合所述粉末材料;
操纵用于将所述高能量射束聚焦在所述粉末材料上的聚焦透镜,以便在工件上形成高能量射束斑;以及
经由至少一个散光透镜来在粉末层上将所述高能量射束斑成形为使得:所述高能量射束斑在所述粉末层上的形状在与所述高能量射束的偏转方向平行的方向上比在与所述高能量射束的所述偏转方向垂直的方向上更长,
其中:
在所述粉末材料上所述高能量射束的扫描期间或者在所述粉末材料上所述高能量射束的接续扫描之间,所述平行方向上所述高能量射束斑的长度与所述垂直方向上所述高能量射束斑的宽度之比作为所述能量射束在所述工件上的功率的函数而变化;并且
所述垂直方向上所述高能量射束斑的所述宽度是恒定值。
11.根据权利要求10所述的非暂时性计算机可读存储介质,其中所述高能量射束是电子束或激光束中的至少一个。
12.根据权利要求10所述的非暂时性计算机可读存储介质,其中所述偏转源是可倾斜镜或可倾斜透镜中的至少一个。
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