[发明专利]等离子体处理设备

权利要求书

1.一种等离子体处理设备，其特征在于，包括：

真空反应腔；

位于所述真空反应腔内底部的下电极组件，所述下电极组件包括承载面，所述承载面用于承载待处理基片；

位于所述真空反应腔顶部的气体分散板，所述气体分散板的侧壁具有第一卸荷槽；

位于所述气体分散板下方的气体喷淋头，所述气体喷淋头朝向承载面。

2.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括：由所述气体分散板边缘向上延伸的侧壁环；由所述侧壁环顶部向外延伸的控温环。

3.如权利要求2所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述气体分散板还包括相对的第一面和第二面，所述气体喷淋头位于所述第一面；所述第二面还具有第二卸荷槽。

4.如权利要求3所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述侧壁环的侧壁还具有第三卸荷槽。

5.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括：位于所述气体分散板与气体喷淋头之间的导热环。

6.如权利要求5所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述导热环的材料为石墨；或者，所述导热环的材料为铝片以及涂覆于所述铝片上下表面的石墨。

7.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括：强压环，所述强压环用于使气体分散板与气体喷淋头压合。

8.如权利要求7所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述强压环的材料与气体分散板的材料相同或者两者的热膨胀系数之差小于10％。

9.如权利要求8所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述气体分散板和所述强压环的材料相同，且所述气体分散板和所述强压环的材料为：铝合金。

10.如权利要求7所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述强压环包括若干个强压单元，各个所述强压单元能够沿强压环径向移动，且移动后所述强压环仍能用于使气体分散板与气体喷淋头压合。

11.如权利要求2所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括：位于所述控温环内的冷却槽，所述冷却槽用于容纳冷却液。

12.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括：加热器，所述加热器用于对气体分散板进行加热。

13.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括：位于所述气体分散板与气体喷淋头之间的密封装置；所述密封装置包括：密封槽和位于密封槽内的密封圈。