[发明专利]NMOS晶体管及其形成方法、电荷泵电路有效

专利信息
申请号: 201910876179.X 申请日: 2019-09-17
公开(公告)号: CN110676323B 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 盖春赟;刘威 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/10;H01L29/06;H01L21/336;H02M3/07
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 董琳;高德志
地址: 430074 湖北省武汉市洪山区东*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: nmos 晶体管 及其 形成 方法 电荷 电路
【权利要求书】:

1.一种用于电荷泵电路的NMOS晶体管,其特征在于,包括:

P型衬底;

位于所述P型衬底中的N型深阱;

位于所述N型深阱中的P型阱区;

位于所述P型阱区部分表面上的栅极结构;

位于所述栅极结构两侧的P型阱区内的N型源区和N型漏区;

环绕所述P型阱区的N型阱区,且所述N型阱区一部分位于P型阱区外侧的N型深阱中,另一部分位于N型深阱外侧的P型衬底中;

所述栅极结构连接控制电压端,所述N型漏区作为电压输入端,所述电压输入端连接输入电压,所述N型源区与N型阱区连接在一起作为电压输出端;所述N型源区一侧的N型阱区中具有N型掺杂区,所述N型漏区一侧的P型阱区内具有P型掺杂区,所述N型掺杂区与电压输出端连接,所述P型掺杂区与电压输入端连接。

2.如权利要求1所述的用于电荷泵电路的NMOS晶体管,其特征在于,通过减小N型阱区的掺杂浓度,增大电压输出端的输出电压。

3.一种形成权利要求1-2任一项所述的NMOS晶体管的方法,其特征在于,包括:

提供P型衬底;

在所述P型衬底中形成N型深阱;

在所述N型深阱中形成P型阱区;

在所述P型阱区部分表面上形成栅极结构;

在所述栅极结构两侧的P型阱区内形成N型源区和N型漏区;

形成环绕所述P型阱区的N型阱区,且所述N型阱区一部分位于P型阱区外侧的N型深阱中,另一部分位于N型深阱外侧的P型衬底中;

将所述栅极结构连接控制电压端,将所述N型漏区作为电压输入端,所述电压输入端连接输入电压,将所述N型源区与N型阱区连接在一起作为电压输出端。

4.一种电荷泵电路,其特征在于,包括串联的N级电荷泵,每一级电荷泵均包括两个前述权利要求1-2任一项所述的NMOS晶体管和两个PMOS晶体管,所述两个NMOS晶体管和两个PMOS晶体管交叉耦合连接。

5.如权利要求4所述的电荷泵电路,其特征在于,所述两个NMOS晶体管包括相同的第一NMOS晶体管和第二NMOS晶体管,所述两个PMOS晶体管包括相同的第一PMOS晶体管和第二PMOS晶体管,所述每一级电荷泵中两个NMOS晶体管和两个PMOS晶体管交叉耦合连接的方式为:所述第一NMOS晶体管的漏极和第二NMOS晶体管漏极连接在一起作为电压输出端,所述第一NMOS晶体管源极与第一PMOS晶体管的源极连接并与第二NMOS晶体管的栅极以及第二PMOS晶体管的栅极连接,所述第二NMOS晶体管的源极与第二PMOS晶体管的源极连接并与第一NMOS晶体管的栅极以及第一PMOS晶体管的栅极连接,所述第一PMOS晶体管的漏极和第二PMOS晶体管的漏极连接在一起作为电压输出端,所述电压输出端连接下一级电荷泵的电压输入端。

6.如权利要求5所述的电荷泵电路,其特征在于,第一级电荷泵的电压输入端连接输入电压,最后一级电荷泵的电压输出端作为电荷泵电路的电压输出端。

7.如权利要求6所述的电荷泵电路,其特征在于,还包括第一时钟和第二时钟,每一个电荷泵中,所述第一NMOS晶体管源极与第一PMOS晶体管的源极的连接点通过第一电容与第一时钟连接,所述第二NMOS晶体管的源极与第二PMOS晶体管的源极的连接点通过第二电容与第二时钟连接。

8.如权利要求7所述的电荷泵电路,其特征在于,所述第一PMOS晶体管的源极通过第三电容与接地端连接,所述第二PMOS晶体管的源极通过第四电容与接地端连接,所述第一电容与第一时钟连接的一端通过第五电容与接地端连接,所述第二电容与第二时钟的连接的一端通过第六电容与接地端连接。

9.如权利要求8所述的电荷泵电路,其特征在于,所述电荷泵的级数为3-10级,所述输入电压为3V-5V,第一时钟和第二时钟互相反向,所述第一时钟和第二时钟的时钟频率15MHz-25MHz,第一时钟和第二时钟的时钟幅值3V-5V,第一电容和第二电容的电容值为0.8pF-1.5pF,第三电容、第四电容、第五电容和电流电容的电容值为0.8pF-1.5pF。

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