[发明专利]一种医用镁合金表面释药功能涂层的制备方法

权利要求书

1.一种医用镁合金表面释药功能涂层的制备方法，包括如下步骤：

A、以纯镁或镁合金为阳极，在电解液中进行微弧氧化，得到含MgO、Mg₂SiO₄和Mg₃(PO₄)₂的微弧氧化膜层；所述电解液中包括磷酸三钠2～25g/L、硅酸钠2～10g/L和氢氧化钠2～15g/L；

B、将步骤A中得到的镁或镁合金浸入硅烷偶联剂配置形成的硅烷化溶液中，在镁或镁合金表面形成硅烷层；

C、将聚合物单体、药物和有机溶剂配置形成有机溶液，氧化剂配置形成溶液；所述的聚合物单体为吡咯、苯胺、乙炔或噻吩中的一种；

D、将步骤B中得到的含有硅烷层的镁或镁合金浸入至步骤C中得到的有机溶液中，随后取出，再放入至步骤C中得到的氧化剂溶液中，重复上述操作，在镁或镁合金表面形成具有药物释放功能的涂层。

2.根据权利要求1所述的一种医用镁合金表面释药功能涂层的制备方法，其特征在于，步骤A中微弧氧化前还包括：对镁合金进行抛光，并依次用丙酮和乙醇进行超声清洗除油，电解液的pH值为8～12。

3.根据权利要求1所述的一种医用镁合金表面释药功能涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤A中微弧氧化的参数包括：电流密度为0.5～300mA/cm²、正电压为250～500V、负电压为5～30V、电流频率为200～2000Hz、正负频率比为0.5～2、正占空比为10％～50％、负占空比为10％～25％、反应时间为5～40min、反应温度为20～50℃。

4.根据权利要求1所述的一种医用镁合金表面释药功能涂层的制备方法，其特征在于，步骤C中有机溶液中聚合物单体的浓度为0.1～1mol/L，所述药物的浓度为1～10mmol/L；所述氧化剂浓度为0.1～3mmol/L，有机溶剂为乙醇、乙二醇、丙醇、异丙醇或丁醇中的一种。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的一种医用镁合金表面释药功能涂层的制备方法，其特征在于，步骤A中所述的镁合金为生物医用二元系镁合金、生物医用三元系镁合金、生物医用四元系镁合金和生物医用五元系镁合金中的一种。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的一种医用镁合金表面释药功能涂层的制备方法，其特征在于，步骤B中所述的硅烷偶联剂为双-(γ-三乙氧基硅丙烷)四硫化物、氨丙基三乙基型硅烷、乙烯基三氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷或乙烯基三(β-甲氧乙氧基)硅烷中的一种。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的一种医用镁合金表面释药功能涂层的制备方法，其特征在于，步骤C中所述的氧化剂为氯化铜、氯化铁、氯化亚铁、氯化银、过硫酸铵、氯化钼或过氧化氢中的一种。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的一种医用镁合金表面释药功能涂层的制备方法，其特征在于，步骤C中所述的药物为地塞米松、雷帕霉素、青霉素、异烟肼、紫杉醇、氟伐他丁、硝苯地平或二甲双胍盐酸盐中的一种。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的一种医用镁合金表面释药功能涂层的制备方法，其特征在于，步骤D中所述的重复上述操作的次数为1～5次。