[发明专利]一种利用支撑层的微纳结构成形制造方法在审
| 申请号： | 201910879618.2 | 申请日： | 2019-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN110562911A | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 周天丰;朱展辰;王子凡;梁志强;焦黎;解丽静;刘志兵;颜培;王西彬 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 11569 北京高沃律师事务所 | 代理人： | 刘潇 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 支撑层 键合 涂覆 沟槽结构 微纳结构 去除 微孔 成形技术领域 工件表面加工 模压成形工艺 材料工件 成形制造 大深径比 工件表面 加工效率 两片玻璃 制造成本 光刻胶 金属膜 软质 加工 尺度 腐蚀 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种利用支撑层的微纳结构成形制造方法，其特征在于：包括以下步骤：
1)、在工件表面加工出微纳沟槽结构；
2)、对微纳沟槽结构进行涂覆支撑层；
3)、将两片涂覆支撑层的工件进行键合；
4)、键合完成后去除工件的支撑层。
2.根据权利要求1所述的利用支撑层的微纳结构成形制造方法，其特征在于：所述工件采用玻璃材料制成。
3.根据权利要求1所述的利用支撑层的微纳结构成形制造方法，其特征在于：所述步骤1)中微纳沟槽结构为半球形。
4.根据权利要求3所述的利用支撑层的微纳结构成形制造方法，其特征在于：所述微纳沟槽结构利用模压成形工艺加工而成。
5.根据权利要求1所述的利用支撑层的微纳结构成形制造方法，其特征在于：所述步骤2)中支撑层为光刻胶或软质金属膜。
6.根据权利要求1所述的利用支撑层的微纳结构成形制造方法，其特征在于：所述步骤3)中两片涂覆支撑层的工件利用模压成形机进行键合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学，未经北京理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910879618.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
