[发明专利]液体输送设备、液体输送及蒸发方法以及半导体制造系统有效
申请号: | 201910880168.9 | 申请日: | 2019-09-18 |
公开(公告)号: | CN110931391B | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 杨信龙;官志达;彭垂亚 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;C23C16/448 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 傅磊;黄艳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 输送 设备 蒸发 方法 以及 半导体 制造 系统 | ||
1.一种液体输送设备,用以将一液体输送到一下游工艺,包括:
一容器,配置以保持该液体;以及
一伸缩管,流体连接该容器以从该容器接收该流体,以及流体连接该下游工艺以输送该流体,其中该流体流入且流经该伸缩管,其中该伸缩管暴露于一恒定外界压力,并配置以在该伸缩管停止从该容器接收该流体时,在该恒定外界压力下输送位于该伸缩管内的流体。
2.如权利要求1所述的液体输送设备,其中该恒定外界压力为大气压力。
3.如权利要求1所述的液体输送设备,其中该伸缩管包括一可经受压力而变形的材料。
4.如权利要求3所述的液体输送设备,其中该可经受压力而变形的材料包括不锈钢。
5.如权利要求3所述的液体输送设备,其中该可经受压力而变形的材料为流体不可渗透的材料。
6.如权利要求1所述的液体输送设备,其中当该伸缩管的一内部压力小于该恒定外界压力时,该伸缩管的一内部容积降低。
7.如权利要求6所述的液体输送设备,其中该内部容积的降低量大于单次工艺运行所需的该液体的体积。
8.如权利要求6所述的液体输送设备,其中该伸缩管包括一固定的第一端以及一可挠的第二端。
9.如权利要求8所述的液体输送设备,其中当该内部压力小于该恒定外界压力时,该可挠的第二端朝该固定的第一端移动。
10.如权利要求1所述的液体输送设备,还包括一液体流速控制装置,配置以调节从该伸缩管排出的该液体的流速。
11.如权利要求1所述的液体输送设备,还包括一蒸发器,配置以接收该流体并蒸发该流体以制造一蒸气。
12.一种液体输送及蒸发方法,包括:
将一液体充入一容器;
将该液体从该容器输送到一伸缩管,其中该伸缩管是配置以当该伸缩管停止从该容器接收该液体时,在一恒定外界压力下进行变形,而将位于该伸缩管内的液体排出到一蒸发器;以及
在该蒸发器中蒸发该液体以形成一蒸气。
13.如权利要求12所述的液体输送及蒸发方法,还包括通过化学气相沉积而将该蒸气沉积在一基板上。
14.如权利要求13所述的液体输送及蒸发方法,还包括在将该蒸气沉积在该基板上之前将该蒸气与一载气混合。
15.一种半导体制造系统,包括:
一容器,配置以保持一流体;
一伸缩管,流体连接该容器以从该容器接收该流体,以及流体连接一下游工艺以输送该流体,其中该流体流入且流经该伸缩管,其中该伸缩管暴露于一恒定外界压力,并配置以在该伸缩管停止从该容器接收该流体时,在该恒定外界压力下输送位于该伸缩管内的流体;
一蒸发器,配置以接收该流体以及制造一蒸气;
一或多个化学气相沉积腔室,配置以接收该蒸气并保持一基板,以将该蒸气的一成分沉积在该基板上;以及
一或多个管道,配置以连接该容器、该伸缩管、该蒸发器、以及该一或多个化学气相沉积腔室。
16.如权利要求15所述的半导体制造系统,其中当该伸缩管的一内部压力小于该恒定外界压力时,该伸缩管的一内部容积降低。
17.如权利要求15所述的半导体制造系统,其中该恒定外界压力为大气压力。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造