[发明专利]液体输送设备、液体输送及蒸发方法以及半导体制造系统有效

专利信息
申请号: 201910880168.9 申请日: 2019-09-18
公开(公告)号: CN110931391B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 杨信龙;官志达;彭垂亚 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;C23C16/448
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 傅磊;黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 液体 输送 设备 蒸发 方法 以及 半导体 制造 系统
【权利要求书】:

1.一种液体输送设备,用以将一液体输送到一下游工艺,包括:

一容器,配置以保持该液体;以及

一伸缩管,流体连接该容器以从该容器接收该流体,以及流体连接该下游工艺以输送该流体,其中该流体流入且流经该伸缩管,其中该伸缩管暴露于一恒定外界压力,并配置以在该伸缩管停止从该容器接收该流体时,在该恒定外界压力下输送位于该伸缩管内的流体。

2.如权利要求1所述的液体输送设备,其中该恒定外界压力为大气压力。

3.如权利要求1所述的液体输送设备,其中该伸缩管包括一可经受压力而变形的材料。

4.如权利要求3所述的液体输送设备,其中该可经受压力而变形的材料包括不锈钢。

5.如权利要求3所述的液体输送设备,其中该可经受压力而变形的材料为流体不可渗透的材料。

6.如权利要求1所述的液体输送设备,其中当该伸缩管的一内部压力小于该恒定外界压力时,该伸缩管的一内部容积降低。

7.如权利要求6所述的液体输送设备,其中该内部容积的降低量大于单次工艺运行所需的该液体的体积。

8.如权利要求6所述的液体输送设备,其中该伸缩管包括一固定的第一端以及一可挠的第二端。

9.如权利要求8所述的液体输送设备,其中当该内部压力小于该恒定外界压力时,该可挠的第二端朝该固定的第一端移动。

10.如权利要求1所述的液体输送设备,还包括一液体流速控制装置,配置以调节从该伸缩管排出的该液体的流速。

11.如权利要求1所述的液体输送设备,还包括一蒸发器,配置以接收该流体并蒸发该流体以制造一蒸气。

12.一种液体输送及蒸发方法,包括:

将一液体充入一容器;

将该液体从该容器输送到一伸缩管,其中该伸缩管是配置以当该伸缩管停止从该容器接收该液体时,在一恒定外界压力下进行变形,而将位于该伸缩管内的液体排出到一蒸发器;以及

在该蒸发器中蒸发该液体以形成一蒸气。

13.如权利要求12所述的液体输送及蒸发方法,还包括通过化学气相沉积而将该蒸气沉积在一基板上。

14.如权利要求13所述的液体输送及蒸发方法,还包括在将该蒸气沉积在该基板上之前将该蒸气与一载气混合。

15.一种半导体制造系统,包括:

一容器,配置以保持一流体;

一伸缩管,流体连接该容器以从该容器接收该流体,以及流体连接一下游工艺以输送该流体,其中该流体流入且流经该伸缩管,其中该伸缩管暴露于一恒定外界压力,并配置以在该伸缩管停止从该容器接收该流体时,在该恒定外界压力下输送位于该伸缩管内的流体;

一蒸发器,配置以接收该流体以及制造一蒸气;

一或多个化学气相沉积腔室,配置以接收该蒸气并保持一基板,以将该蒸气的一成分沉积在该基板上;以及

一或多个管道,配置以连接该容器、该伸缩管、该蒸发器、以及该一或多个化学气相沉积腔室。

16.如权利要求15所述的半导体制造系统,其中当该伸缩管的一内部压力小于该恒定外界压力时,该伸缩管的一内部容积降低。

17.如权利要求15所述的半导体制造系统,其中该恒定外界压力为大气压力。

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