[发明专利]PM2.5防护设备、PM2.5过滤膜及其制备方法

权利要求书

1.一种PM2.5过滤膜，其特征在于，所述过滤膜具有若干由光刻和刻蚀方法形成的微孔，若干所述微孔的孔径均小于2.5μm，所述过滤膜的材料选自聚酰亚胺、铝及铜中的一种。

2.一种PM2.5过滤膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供支撑基板；

在所述支撑基板上形成牺牲层；

在所述牺牲层上形成活性层；

在所述活性层上形成光敏感层；

提供掩膜版，所述掩膜版具有不透光部和由若干个透光区域组成的透光部，所述透光部和所述不透光部形成图案，其中，每个所述透光区域在二维平面上的最大尺寸均小于或等于2.0μm；

以所述掩膜版为模板，对所述光敏感层进行曝光处理，再经显影处理，以得到具有所述图案的光敏感层；

以所述具有所述图案的光敏感层为模板，对所述活性层进行刻蚀处理，以得到具有所述图案的活性层；

去除所述光敏感层和所述牺牲层，得到所述PM2.5过滤膜。

3.根据权利要求2所述的PM2.5过滤膜的制备方法，其特征在于，所述支撑基板的材料选自单晶硅、多晶硅以及硅的氧化物中的至少一种。

4.根据权利要求2所述的PM2.5过滤膜的制备方法，其特征在于，所述牺牲层的形成方式选自热氧化、化学沉积及物理沉积中的一种。

5.根据权利要求2所述的PM2.5过滤膜的制备方法，其特征在于，所述活性层的材料选自聚酰亚胺、铝及铜中的一种。

6.根据权利要求2所述的PM2.5过滤膜的制备方法，其特征在于，所述活性层的形成方式选自涂覆、化学沉积及物理沉积中的一种。

7.根据权利要求2所述的PM2.5过滤膜的制备方法，其特征在于，所述在所述活性层上形成光敏感层的步骤包括：在所述活性层上涂覆光敏感材料，并在惰性气体环境下，进行加热处理。

8.根据权利要求7所述的PM2.5过滤膜的制备方法，其特征在于，所述光敏感材料选自光刻胶及感光聚乙烯亚胺中的一种。

9.根据权利要求2所述的PM2.5过滤膜的制备方法，其特征在于，在形成所述光敏感层的步骤之前，还包括在所述活性层上形成增韧层的步骤。

10.一种PM2.5防护设备，其特征在于，包括层叠设置的纤维膜和PM2.5过滤膜，所述过滤膜为权利要求1所述的PM2.5过滤膜或根据权利要求2～10任一项所述的PM2.5过滤膜的制备方法制备得到的所述PM2.5过滤膜。