[发明专利]一种采用非平衡等离子体射流技术的净水系统有效
申请号: | 201910881496.0 | 申请日: | 2019-09-18 |
公开(公告)号: | CN110550694B | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | 宋鹏 | 申请(专利权)人: | 大连民族大学 |
主分类号: | C02F1/30 | 分类号: | C02F1/30 |
代理公司: | 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 | 代理人: | 毕进 |
地址: | 116600 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 采用 平衡 等离子体 射流技术 净水 系统 | ||
1.一种采用非平衡等离子体射流技术的净水系统,其特征在于,包括:液体雾化器、非平衡等离子体射流激励器、流量计、过滤器、液体流量控制阀、气体流量控制阀、蓄液池、高压气瓶、阀门开度电子控制器、等离子体电源;所述液体雾化器依次通过流量计、过滤器、液体流量控制阀与蓄液池相连,所述液体流量控制阀还连接至阀门开度电子控制器的一端,所述阀门开度电子控制器的另一端与气体流量控制阀相连,所述气体流量控制阀位于高压气瓶与非平衡等离子体射流激励器之间的管路上,所述非平衡等离子体射流激励器与等离子体电源相连,所述液体雾化器底部的喷射区域与非平衡等离子体射流激励器一侧的射流区域重叠;
所述非平衡等离子体射流激励器的数量为多个,均与等离子体电源相连;
所述液体雾化器包括雾化器体,所述雾化器体为中空圆柱体结构,在中空圆柱体结构底部设有雾化喷孔;
所述雾化喷孔为圆直孔结构或交叉圆直孔结构或交叉缝结构;
所述非平衡等离子体射流激励器,包括高压电极、接地电极、激励器体,所述高压电极位于激励器体中,在激励器体外壁连接有接地电极。
2.根据权利要求1所述一种采用非平衡等离子体射流技术的净水系统,其特征在于,所述高压电极为圆柱状或条状,其材料为钨或铜或不锈钢。
3.根据权利要求1所述一种采用非平衡等离子体射流技术的净水系统,其特征在于,所述激励器体由聚四氟乙烯、玻璃、陶瓷绝缘材料构成。
4.根据权利要求1所述一种采用非平衡等离子体射流技术的净水系统,其特征在于,所述蓄液池为一水槽结构,用来储存待净化液体。
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