[发明专利]清洗槽及清洗设备

说明书

本发明提供了一种清洗槽及清洗设备，其中清洗槽包括：槽体；转动组件，设置在所述槽体内，被配置为能够相对于所述槽体转动；支撑件，设置在所述转动组件上。本发明清洗槽通过转动组件及支撑件的设置，在工作过程中，通过转动组件转动一定角度，带动支撑件转动，使支撑件呈竖直状，配置出加载间隙，此时可以通过加载间隙向槽体内下放石墨舟，该石墨舟会处于传动组件的下方，而后再次驱动转动组件，放平支撑件，可将另外一个石墨舟放置在支撑件上，通过这种方式可以同时清洗两个石墨舟，大大提高清洗效率与清洗药剂、占地空间的利用率，可以减少清洗设备的投入量，减小清洗设备占地面积。

技术领域

本发明涉及清洗设备领域，具体而言，涉及一种清洗槽及一种清洗设备。

背景技术

工件的支撑件或模具，在完成生产加工后大多需要进行清洗，但是现有的清洗槽结构单一，每次只能清洗一个支撑件或模具，清洗效率及清洗液消利用率低。以晶硅太阳能电池生产过程为例，在晶硅太阳能电池生产过程中，有一个关键的氮化硅减反射膜沉积工艺。在该氮化硅减反射膜沉积过程中，晶硅电池片的承载物为石墨舟或者石墨框。一般在工艺生产过程中，石墨舟也会被沉积到氮化硅薄膜，到一定厚度以后(一般大于10μm)，需要对石墨舟做清洗处理。目前业界普遍采用的传统清洗方法是使用HF/HCL混合液湿法槽式清洗，即将石墨舟浸泡在存有HF/HCL的槽中4～8小时，再用清水漂洗，在高温烘箱烘4～8小时烘干。现有的清洗槽每次只能在一个清洗槽中放一个石墨舟进行清洗，清洗效率低，在客户需要高产能的同时无法达到客户需求，为了提高效率只能增加多个槽体，势必会增加投资成本与占地面积。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。

为此，本发明第一方面提供了一种清洗槽。

本发明第二方面提供了一种清洗设备。

有鉴于此，本发明第一个方面，提供了一种清洗槽，包括：槽体；转动组件，设置在槽体内，被配置为能够相对于槽体转动；支撑件，设置在转动组件上。

本发明清洗槽通过转动组件及支撑件的设置，在工作过程中，通过转动组件转动一定角度(90°左右)，带动支撑件转动，使支撑件呈竖直状，配置出加载间隙，此时可以通过加载间隙向槽体内下放石墨舟，该石墨舟会处于槽体的底部位于传动组件的下方，而后再次驱动转动组件，放平支撑件，可将另外一个石墨舟放置在支撑件上，通过这种方式可以同时清洗两个石墨舟，大大提高清洗效率与清洗药剂、占地空间的利用率，可以减少清洗设备的投入量，减小清洗设备占地面积。

另外，根据本发明提供的上述技术方案中的清洗槽，还可以具有如下附加技术特征：

在上述技术方案中，优选地，转动组件包括：旋转轴，设置在槽体内，旋转轴的一端穿过槽体伸出槽体，支撑件设置在旋转轴上；驱动件，设置在槽体上，驱动件的输出端连接于旋转轴伸出槽体的一端；密封组件，设置在旋转轴与槽体的连接处。

在该技术方案中，通过驱动件带动旋转轴转动，进而带动支撑件转动，便于配置出供石墨舟下放进槽体的加载间隙。同时由于槽体内需要配置清洗液，为了保障具备良好的清洗效果清洗液通常具备一定的酸性，通过密封组件的设置，对旋转轴与槽体的连接处进行密封，防止清洗液外溢腐蚀槽体外侧或污染环境。

具体地，驱动件可以是设置在槽体外侧的气缸，通过调节气缸的伸缩长度，能够控制旋转轴的转动角度，通过气缸的伸长或收缩能够控制旋转轴的转动方向，使驱动更为方便、准确。

在上述任一技术方案中，优选地，旋转轴为多个，每个旋转轴上设置有至少一个支撑件。

在该技术方案中，旋转轴可以为多个，多个旋转轴一方面可以支撑多个石墨舟，另一方面能够将槽体分割为上下双层空间，每层空间内可以容纳相应数量的石墨舟，清洗槽即可同时清洗多个石墨舟，能够进一步地提高清洗效率。

更优选地，相邻来两个旋转轴之间的距离大于石墨舟的宽度。