[发明专利]用于磁控溅射工艺腔室的磁场分布均匀化装置

权利要求书

1.一种用于磁控溅射工艺腔室的磁场分布均匀化装置，其特征在于包括：

壳体，壳体内限定了一个真空腔室；

设置在真空腔室内的、用于升降基片的升降机构(10)；

转轴；

驱动装置(1)，用于驱动转轴转动；

柔性四连杆机构，包括机架、连杆、连架杆、以及柔性铰链，所述柔性四连杆机构设在所述真空腔室内且位于靶材上方，其中：柔性四连杆机构被安装在转轴上，当驱动装置(1)驱动转轴转动时，转轴带动柔性四连杆机构(4)旋转，从而带动柔性四连杆机构在一定范围内摆动；

设置在升降机构的顶部的基片支撑台组件(9)，用于把基片设在基片支撑台组件(9)上；

磁控管，其位于靶材的上部；

安装在所述连杆上的一组磁铁；

靶材转轮(7)；

靶材托架(6)；

转轮托架(16)；

等径凸轮环槽(34)；

靶材驱动装置(17)，

其中：

转轴的安装位置是真空腔室的顶部或真空腔室侧面，

转轴相对于靶材和真空腔室非对称地安装，

等径凸轮环槽(34)形成在靶材转轮(7)的上表面，

靶材转轮(7)用于带动靶材(8)转动，

靶材托架(6)为圆环形，

靶材托架(6)安装在等径凸轮环槽(34)内，

靶材(8)设在靶材托架(6)上，

转轮托架(16)由壳体支撑，

靶材转轮(7)通过交叉轴承(15)安装在转轮托架(16)上，以由靶材驱动装置(17)驱动，从而实现转动，

所述一组磁铁位于连杆不同位置，随所述连杆运动。

2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射工艺腔室的磁场分布均匀化装置，其特征在于：

靶材驱动装置(17)与靶材转轮(7)之间设有第一齿轮(14)，靶材转轮(7)的外周面上设有与第一齿轮(14)配合的轮齿，从而使靶材驱动装置(17)驱动第一齿轮(14)转动，

靶材转轮(7)上的轮齿与第一齿轮(14)啮合，从而实现靶材转轮(7)的转动。

3.根据权利要求1所述的用于磁控溅射工艺腔室的磁场分布均匀化装置，其特征在于：

靶材转轮(7)的上表面可设有滑槽(32)，滑槽(32)内安装有圆环滑块(22)，

圆环滑块(22)由减摩材料制成，支撑靶材转轮并减少靶材转轮与转轮托架的摩擦。

4.根据权利要求1所述的用于磁控溅射工艺腔室的磁场分布均匀化装置，其特征在于，所述柔性四连杆机构为一体成型件，柔性铰链由梯度材料和特定的宽径比实现。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的用于磁控溅射工艺腔室的磁场分布均匀化装置，其特征在于，所述磁铁为至少两对S和N极间隔布置。

6.根据权利要求1所述的用于磁控溅射工艺腔室的磁场分布均匀化装置，其特征在于，所述壳体包括：

下壳体，所述下壳体内限定有真空腔室的下腔室，所述基片位于所述下腔室内；

上壳体，所述上壳体设在所述下壳体上，所述上壳体内限定有真空腔室的上腔室，所述上腔室与所述下腔室共同限定出所述真空腔室，所述四连杆机构位于所述上腔室内。