[发明专利]基于X射线能量扫描的两相错配度的测量方法有效

专利信息
申请号: 201910884192.X 申请日: 2019-09-19
公开(公告)号: CN110658221B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 陈凯;寇嘉伟;沈昊;朱文欣 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G01N23/2055 分类号: G01N23/2055
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 覃婧婵
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 基于 射线 能量 扫描 两相 错配度 测量方法
【权利要求书】:

1.一种基于X射线能量扫描的两相错配度的测量方法,所述方法包括以下步骤:

第一步骤(S1)中,发射连续谱X射线照射样品表面,X射线面探测器接收来自样品的共有n个衍射峰的劳厄衍射图谱,标定所述劳厄衍射图谱;

第二步骤(S2)中,根据样品的理论晶格参数,计算所述劳厄衍射图谱上各衍射峰对应的X射线能量,选择其中一个衍射峰对应的X射线能量E0,置入单色器,通过调整设在X射线入射光路上的单色器,以步长ΔE0在能量范围E0-Et至E0+Et内扫描,使用所述X射线面探测器接收m个不同的能量Ej下的衍射峰Pj,所述衍射峰Pj上共有mj个像素点Xj,j′,各像素点上的X射线强度为Ij,j′,其中,j=1,2,3……m,j′=1,2,3……mj

第三步骤(S3)中,计算所有衍射峰Pj上所有的像素点Xj,j′对应的衍射向量长度|kj,j′|,其中,X射线光源到样品表面X射线照射点的向量为入射向量样品表面X射线照射点到X射线面探测器上像素点Xj,j′的向量为出射向量像素点Xj,j′对应的衍射向量长度为其中,h为普朗克常数,c为真空中光速;

第四步骤(S4)中,曲线采样率r,将区间[min{|kj,j′|},max{|kj,j′|}]划分为等距的r段,每段长度为Ad,且第l段的起点为dl,这里l=1,2,3……r,对第l段,在所有衍射向量长度|kj,j′|中找到所有值在区间[dl,dl+Δd)内的衍射向量长度并求这些衍射向量长度对应的像素点上的强度的平均值Iaver,l,这里l=1,2,3……r;

第五步骤(S5)中,在平面直角坐标系中绘制r个点这里l=1,2,3……r,使用双峰拟合函数拟合各点得到分别来自样品中两相的峰中心d1和d2

第六步骤(S6)中,计算样品两相的第一相和第二相之间的错配度θ,

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述样品包括共格或半共格双相结构。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,第一步骤(S1)中,发射连续谱X射线的光源为使用靶材轫致辐射X射线的光源或同步辐射X射线光源。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,第二步骤(S2)中,基于单色器参数与所测材料的性质调整扫描步长与扫描范围,步长ΔE0为2eV,扫描范围Et为25eV。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,第四步骤(S4)中,曲线采样率r基于能量扫描的步长和X射线面探测器的分辨率调整。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,第四步骤(S4)中,曲线采样率r为200。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,劳厄衍射图谱至少存在4个衍射峰。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,第四步骤(S4)中,根据所使用的X射线面探测器的不同,像素点接收到的X射线强度为像素点上在曝光时间内接收到的X射线光子数、像素点上探测到的光电子数或像素点对应的电流值。

9.根据权利要求1所述的方法,其中,第五步骤(S5)中,双峰拟合采用高斯分布函数、洛伦兹分布函数或Voigt分布函数进行拟合。

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