[发明专利]一种基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法在审
申请号: | 201910885452.5 | 申请日: | 2019-09-19 |
公开(公告)号: | CN110660912A | 公开(公告)日: | 2020-01-07 |
发明(设计)人: | 唐孝生;林琪琪;胡伟;张孟;叶怀宇;张国旗 | 申请(专利权)人: | 深圳第三代半导体研究院 |
主分类号: | H01L51/05 | 分类号: | H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40 |
代理公司: | 11226 北京中知法苑知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 阎冬;李明 |
地址: | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 薄膜 阻变存储器件 退火 二甲基甲酰胺溶液 机械稳定性 薄膜材料 低温条件 高低电阻 光学性能 甲醇溶液 阻变特性 电极 钙钛矿 两步法 衬底 旋涂 生长 | ||
1.一种基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法,其特征在于:包括
1):二甲基甲酰胺溶液中加入PbX2制备PbX2溶液;
2):甲醇溶液中加入CsX2制备CsX2溶液;
3):PbX2溶液旋涂在衬底上并退火制备PbX2薄膜;
4):PbX2薄膜置于CsX2溶液中生长并退火制备CsPbX3薄膜;
5):CsPbX3薄膜上镀Ag电极制得柔性阻变存储器件。
2.根据权利要求1所述的基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法,其特征在于:所述1)中,PbX2溶液质量浓度为300-400g/L,制备条件为50℃-80℃下磁力搅拌0.5-1.5h并于0.2-0.4μm孔径过滤器过滤。
3.根据权利要求1所述的基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法,其特征在于:所述2)中,CsX2溶液质量浓度为10-30g/L,制备条件为30℃-70℃下磁力搅拌0.5-1.5h。
4.根据权利要求1所述的基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法,其特征在于:所述3)中衬底制备方法包括
3.1 过滤PEDOT:PSS溶液;
3.2 将涂有ITO的PET基底超声清洗,氮气吹干,臭氧清洗;
3.3 将PEDOT:PSS旋涂在所述涂有ITO的PET基底形成衬底。
5.根据权利要求4所述的基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法,其特征在于:所述3.1中,过滤所用设备孔径为0.3-0.5μm;所述3.2中超声清洗方式为依次在洗涤精水、去离子水、无水乙醇中超声15-45min;所述臭氧清洗时间为10-30min。
6.根据权利要求4所述的基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法,其特征在于:所述3.3中旋涂转速为3000-4000rpm,旋涂时间为10-40s。
7.根据权利要求1所述的基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法,其特征在于:所述3)中旋涂温度为50-80℃,旋涂转速为3000-4000rpm,退火温度为50-90℃,退火时间为10-30min。
8.根据权利要求1所述的基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法,其特征在于:所述4)中制备CsPbX3薄膜条件为:
4.1 PbX2薄膜置于CsX2溶液中,保持温度为30-70℃,生长5-20分钟,制备CsPbX3薄膜前驱体;
4.2 CsPbX3薄膜前驱体放入异丙醇中保持5-30s;
4.3 氮气吹扫CsPbX3薄膜前驱体;
4.4 50-90℃下退火20-40min制备CsPbX3薄膜。
9.根据权利要求1所述的基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法,其特征在于:所述5)包括
5.1:将掩膜板盖在CsPbX3薄膜上;
5.2:在真空中加热Ag源形成银蒸气流,入射CsPbX3薄膜表面凝固形成Ag薄膜;
5.3:持续蒸镀50-150nm厚的Ag薄膜形成Ag电极。
10.根据权利要求1-9所述的基于钙钛矿的柔性阻变存储器件制备方法,其特征在于:所述X为Cl、Br或I任一元素。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳第三代半导体研究院,未经深圳第三代半导体研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910885452.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择