[发明专利]一种LCD基板清洗剂及其使用方法在审
申请号: | 201910886335.0 | 申请日: | 2019-09-19 |
公开(公告)号: | CN110684602A | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 孙平;喻贵;范德顺;胡军辉;陈烨;谢钟;王松林;陈志斌;刘文辉 | 申请(专利权)人: | 江华飞信达科技有限公司 |
主分类号: | C11D1/66 | 分类号: | C11D1/66;C11D3/06;C11D3/04;C11D3/30;C11D3/20;C11D3/28;C11D3/60;B08B3/08 |
代理公司: | 11246 北京众合诚成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李宝硕 |
地址: | 425500 湖南省永州*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗剂 基板 清洁 清洗 非离子表面活性剂 甲基吡咯烷酮 表面活性剂 无机絮凝剂 氢氧化钾 清洁方式 去离子水 重量份数 废水处理 风干 漂洗 超音波 均匀度 清洁力 清洗线 碳酸钠 乙醇胺 螯合剂 丙酮 照射 调配 制作 安全 保证 | ||
本发明公开了一种LCD基板清洗剂及其使用方法,各组分的重量份数分别是:10‑20份的氢氧化钾、10‑18份的碳酸钠、14‑26份的乙醇胺、15‑25份的丙酮、15‑25份的N‑甲基吡咯烷酮、5‑10份的非离子表面活性剂、5‑10份的无机絮凝剂、6‑8份的螯合剂和70‑100份的去离子水;使用方法,包括以下步骤,步骤一,清洗剂制作;步骤二,正常清洗线;步骤三,清洗剂清洗;步骤四,超音波清洗;步骤五,基板风干;步骤六,UV光照射;该LCD基板清洗剂及其使用方法,科学调配,采用表面活性剂和各种助剂协同作用,具有良好的清洁力的同时保证了基板的膜均匀度,且废水处理更加安全,多种清洁方法清洁更加彻底,残留物漂洗干净,避免了单一清洁方式清洁不彻底导致后期基板显示问题。
技术领域
本发明涉及LCD基板技术领域,具体为一种LCD基板清洗剂及其使用方法。
背景技术
LCD即液晶显示器。LCD的构造是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶盒,下基板玻璃上设置TFT(薄膜晶体管),上基板玻璃上设置彩色滤光片,通过TFT上的信号与电压改变来控制液晶分子的转动方向,从而达到控制每个像素点偏振光出射与否而达到显示目的。在LCD的制作过程中玻璃基板需进行充分的清洁,以保证后续工序的正常生产,同时现有的清洁方式单一,不利于残留物的充分洁净,因此设计一种LCD基板清洗剂及其使用方法是十分有必要的。
发明内容
本发明的目的在于提供一种LCD基板清洗剂及其使用方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
为了解决上述技术问题,本发明提供如下技术方案:一种LCD基板清洗剂,配方包括:氢氧化钾、碳酸钠、乙醇胺、丙酮、N-甲基吡咯烷酮、非离子表面活性剂、无机絮凝剂、螯合剂和去离子水,各组分的重量份数分别是:10-20份的氢氧化钾、10-18份的碳酸钠、14-26份的乙醇胺、15-25份的丙酮、15-25份的N-甲基吡咯烷酮、5-10份的非离子表面活性剂、5-10份的无机絮凝剂、6-8份的螯合剂和70-100份的去离子水。
一种LCD基板清洗剂的使用方法,包括以下步骤,步骤一,清洗剂制作;步骤二,正常清洗线;步骤三,清洗剂清洗;步骤四,超音波清洗;步骤五,基板风干;步骤六,UV光照射;
其中在上述步骤一中,清洗剂制作包括以下步骤:
1)按照各组分的重量百分含量分别是:10-20份的氢氧化钾、10-18份的碳酸钠、14-26份的乙醇胺、15-25份的丙酮、15-25份的N-甲基吡咯烷酮、5-10份的非离子表面活性剂、5-10份的无机絮凝剂、6-8份的螯合剂和70-100份的去离子水进行选取;
2)将上述选取的原料加入反应釜中,在80-200r/min的速率下不断搅拌10-30min,直至搅拌混合均匀,再按照规格进行灌装;
其中在上述步骤二中,将待清洗的LCD基板膜面向上水平放置在正常清洗线传送带上,利用毛刷对其进行刷洗,同时喷淋除去污渍;
其中在上述步骤三中,将LCD基板浸入清洗剂原液中1-2min后拿出;再利用水压为1-3Mpa的高压纯净水对LCD基板表面进行冲洗;
其中在上述步骤四中,将LCD基板利用超声波汽相除油脂清洗机进行清洗,超声波频率为28-40KHz;
其中在上述步骤五中,将基板利用风干设备进行风干;
其中在上述步骤六中,将风干的基板利用UV光照射,检查有无破损后储存于洁净空间内。
根据上述技术方案,所述非离子表面活性剂为一种非离子聚丙烯酰胺。
根据上述技术方案,所述螯合剂为一种三聚磷酸钠。
根据上述技术方案,所述无机絮凝剂为聚合硫酸铁、聚合氯化铝和铁盐中的任一种。
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