[发明专利]一种显示基板以及显示装置在审

专利信息
申请号: 201910887341.8 申请日: 2019-09-19
公开(公告)号: CN110783383A 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 甄常刮;顾辛艳 申请(专利权)人: 纳晶科技股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 44288 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 代理人: 贺红星
地址: 310052 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示基板 界面层 功能材料 显示装置 功能层 子像素 墨水 像素界定层 发光器件 表面能 厚度均匀性 墨水干燥 显示性能 内表面 衬底 界定 像素 阻抗 铺展 浸润 覆盖
【说明书】:

发明公开了一种显示基板以及显示装置。该显示装置包括显示基板,该显示基板包括设置在衬底上的像素界定层,像素界定层界定多个子像素坑,显示基板还包括界面层,界面层至少覆盖子像素坑的内表面,界面层的表面能不小于70mN/m,界面层的阻抗不小于1ohm·cm2,且不超过2000ohm·cm2;该显示装置还包括设于显示基板上的发光器件,发光器件包括设于子像素坑内的至少一功能层,至少部分功能层由功能材料墨水干燥制得,功能材料墨水的表面能不超过70mN/m,从而功能材料墨水能够浸润界面层。本发明的显示基板有利于功能材料墨水在子像素坑内均匀铺展,形成厚度均匀性好的功能层,进而获得显示性能好的显示装置。

技术领域

本发明涉及光电器件技术领域,尤其涉及一种显示基板以及显示装置。

背景技术

随着对画质的不断提升,像素密度(PPi)的要求越来越高,对显示发光器件的制备工艺也提出了更高的要求。现有技术中,湿法制作OLED或者QLED器件,为了保证打印墨水可以全部落入子像素内而不黏附在像素界定层上,一般会选取低表面能的树脂来制作像素界定层,当墨水落入子像素内时,液面呈现明显的鼓包状,随着墨水的干燥,膜层在子像素内会呈现中间薄两端厚的厚度分布,不利于获得发光性能好的显示器件。

发明内容

发明人发现PPi越高,发光器件由于各种缺陷发生短路现象的发生更频繁,经过分析发现,造成短路现象的主要原因包括:衬底上第一电极的缺陷(比如颗粒异物、针孔等导致的缺陷),导致电流容易从电极尖峰处流走;或者是功能层的厚度均匀性差,导致电流容易从功能层厚度较薄处流走。上述原因导致发光器件因短路而产生像素单元发光偏暗甚至不发光的问题,严重影响显示装置的显示效果。为了克服现有技术的不足,本发明的目的之一在于提供一种显示基板,其有利于墨水在子像素坑内均匀成膜,同时可减少短路,利用该显示基板可获得显示性能好的显示装置。

根据本发明的一个方面,提供一种显示基板,包括设置在衬底上的像素界定层,上述像素界定层界定多个子像素坑,上述显示基板还包括界面层,上述界面层至少覆盖上述子像素坑的内表面,上述界面层的表面能不小于70mN/m,上述界面层的阻抗不小于1ohm·cm2,且不超过2000ohm·cm2

在其中一些实施例中,上述界面层的可见光透过率不低于80%,优选地,上述界面层的可见光透过率不低于90%。

在其中一些实施例中,上述界面层的材料为金属化合物,上述金属化合物选自金属氧化物、金属氟化物、金属硫化物中的一种或多种,优选地,上述界面层的材料选自以下一种或多种:氧化锌、氧化钼、氧化镍、氧化锡、氟化铝。

在其中一些实施例中,上述界面层的厚度为5nm~100nm。

在其中一些实施例中,上述子像素坑的侧面与上述子像素坑底面的夹角为α,α>90°,优选α≥120°。

根据本发明的另一些方面,提供一种显示装置,包括:

本发明前述的显示基板;以及设于上述显示基板上的发光器件,上述发光器件包括设于上述子像素坑内的至少一功能层,至少部分上述功能层由功能材料墨水干燥制得,上述功能材料墨水的表面能不超过70mN/m。

在其中一些实施例中,上述子像素坑的侧面与上述子像素坑底面的夹角为α,α>90°,优选α≥120°。

在其中一些实施例中,上述功能材料墨水与上述界面层的接触角为β1,(180°-α)≤β1<90°,上述功能材料墨水与其底部界面的接触角为β2,β2<90°。

在其中一些实施例中,上述功能材料墨水在上述界面层上的滚动角为γ,γ<180°-α。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳晶科技股份有限公司,未经纳晶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910887341.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top