[发明专利]吸附装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法

说明书

本发明提供吸附装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法。吸附装置的特征在于，包括：被吸附体支承单元，用于支承被吸附体；静电吸盘，设置在被吸附体支承单元的一侧，用于吸附被吸附体；距离调整部件，用于调整被吸附体支承单元与静电吸盘的距离；以及控制部，用于控制对静电吸盘的电压施加以及距离调整部件对被吸附体支承单元与静电吸盘的距离的调整，控制部控制距离调整部件，以使静电吸盘与被吸附体支承单元之间的距离成为规定的间隔，并进行控制，以在被吸附体支承单元和静电吸盘被隔开规定的间隔的状态下，对静电吸盘施加用于在朝向静电吸盘的方向上吸引由被吸附体支承单元支承的被吸附体的电压。

技术领域

本发明涉及吸附装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法。

背景技术

在有机EL显示装置(有机EL显示器)的制造中，在形成构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件；OLED)时，将从成膜装置的蒸镀源蒸发了的蒸镀材料隔着形成有像素图案的掩模蒸镀到基板上，由此形成有机物层、金属层。

在向上蒸镀方式(向上淀积)的成膜装置中，蒸镀源设置于成膜装置的真空容器的下部，基板配置于真空容器的上部，向基板的下表面蒸镀。因为在这样的向上蒸镀方式的成膜装置的真空容器内，仅基板的下表面的周边部由基板保持架保持，所以基板因其自重而挠曲，这成为使蒸镀精度下降的一个主要原因。在向上蒸镀方式以外的方式的成膜装置中，也有可能因基板的自重而产生挠曲。

作为用于降低由基板的自重引起的挠曲的方法，正在研究使用静电吸盘的技术。即，通过利用静电吸盘对基板的整个上表面进行吸附，能够降低基板的挠曲。

在专利文献1(韩国专利公开公报2007-0010723号)中，提出了利用静电吸盘吸附基板及掩模的技术。

专利文献1：韩国专利公开公报2007-0010723号

可是，在以往的技术中，在使掩模隔着基板吸附于静电吸盘的情况下，存在在吸附后的掩模上残留褶皱的问题。

发明内容

本发明的目的在于，将第1被吸附体和第2被吸附体这两者良好地吸附于静电吸盘。

用于解决课题的技术方案

本发明的第1技术方案的吸附装置，其特征在于，该吸附装置包括：被吸附体支承单元，用于支承被吸附体；静电吸盘，设置在所述被吸附体支承单元的一侧，用于吸附所述被吸附体；距离调整部件，用于调整所述被吸附体支承单元与所述静电吸盘的距离；以及控制部，用于控制对所述静电吸盘的电压施加以及所述距离调整部件对所述被吸附体支承单元与所述静电吸盘的距离的调整，所述控制部控制所述距离调整部件，以使所述静电吸盘与所述被吸附体支承单元之间的距离成为规定的间隔，并进行控制，以在所述被吸附体支承单元和所述静电吸盘被隔开所述规定的间隔的状态下，对所述静电吸盘施加用于在朝向所述静电吸盘的方向上吸引由所述被吸附体支承单元支承的被吸附体的电压。

本发明的第2技术方案的成膜装置，其特征在于，该成膜装置包括：基板支承单元，用于支承基板；掩模支承单元，设置在所述基板支承单元的一侧，用于支承掩模；静电吸盘，以所述基板支承单元为基准，设置在所述掩模支承单元的相反侧，用于吸附所述基板并隔着所述基板吸附所述掩模；距离调整部件，用于调整所述掩模支承单元与所述静电吸盘的距离；以及控制部，用于控制对所述静电吸盘的电压施加以及所述距离调整部件对所述掩模支承单元与所述静电吸盘的距离的调整，所述控制部控制所述距离调整部件，以使所述静电吸盘隔着所述基板与所述掩模支承单元之间的距离成为规定的间隔，并进行控制，以在所述静电吸盘与所述掩模支承单元隔开所述规定的间隔的状态下，对所述静电吸盘施加用于使所述掩模在朝向所述静电吸盘的方向上成为凸状的规定的电压。