[发明专利]一种防止反溅液体污染基板的装置及方法

权利要求书

1.一种防止反溅液体污染基板的装置，包括电机、承载台、升降CUP、喷嘴及摆臂，其中电机的输出端与承载台相连、驱动承载台旋转，该承载台上放置有随承载台旋转的基板，所述电机外围设有可升降的升降CUP；所述喷嘴通过摆臂的带动在升降CUP内侧与外侧之间移动，该喷嘴连接有进液管路B，通过所述进液管路B向喷嘴输送对基板进行工艺处理的液体B；其特征在于：所述喷嘴(4)上安装有防溅罩(6)，该防溅罩(6)的上端与喷嘴(4)相连，下端为开放结构，所述防溅罩(6)上开设有至少一个进液管(7)，进液管(7)连接有进液管路A，通过该进液管路A向所述防溅罩(6)内部输送液体A，液体A在防溅罩(6)的内表面形成有液体膜(11)；所述喷嘴(4)向基板(12)表面喷洒液体B，在基板(12)表面形成反溅的液体B反溅至所述液体膜(11)，并随液体膜(11)流到基板(12)表面，随基板(12)的旋转脱离基板(12)。

2.根据权利要求1所述防止反溅液体污染基板的装置，其特征在于：所述进液管(7)的轴向与防溅罩(6)的切向相同，进入的液体A沿防溅罩(6)的切向流入，并在离心力的作用下在所述防溅罩(6)的内表面形成连续不间断的液体膜(11)。

3.根据权利要求2所述防止反溅液体污染基板的装置，其特征在于：所述进液管(7)开设在防溅罩(6)的上端，所述液体膜(11)完全覆盖防溅罩(6)的内表面。

4.根据权利要求2所述防止反溅液体污染基板的装置，其特征在于：所述防溅罩(6)的轴向截面为矩形或梯形，该防溅罩(6)的径向截面为圆形或椭圆形。

5.根据权利要求1所述防止反溅液体污染基板的装置，其特征在于：所述进液管路A(9)上安装有调节液体A流速的调速阀(8)，或者，所述进液管(7)处安装有调速阀(8)，所述进液管路A(9)通过该调速阀(8)与进液管(7)相连通。

6.根据权利要求1所述防止反溅液体污染基板的装置，其特征在于：所述防溅罩(6)的下端端部高于基板(12)，且该防溅罩(6)的下端端部位于所述喷嘴(4)下端端部的下方。

7.一种权利要求1至6任一权利要求所述防止反溅液体污染基板的方法，其特征在于：所述基板(12)位于承载台(2)上，随承载台(12)在电机(1)的驱动下旋转，所述喷嘴(4)在摆臂(5)的带动下移动至基板(12)的上方；液体A经所述进液管(7)进入防溅罩(6)内，并在离心力的作用下在所述防溅罩(6)的内表面形成液体膜(11)，该液体膜(11)向下流到所述基板(12)的表面，随基板(12)的旋转而脱离基板(12)；

液体B(10)通过所述喷嘴(4)喷洒至基板(12)的表面上，对基板(12)进行工艺处理，并随所述基板(12)的旋转而脱离基板(12)；在液体B(10)喷洒过程中，由所述基板(12)表面形成反溅的液体B(10)反溅至防溅罩(6)内表面的液体膜(11)，并随该液体膜(11)流至基板(12)的表面，再随基板(12)的旋转而脱离基板(12)。