[发明专利]镀膜设备

权利要求书

1.一镀膜设备，其特征在于，包括：

一反应腔体，其中所述反应腔体具有一反应腔；

一抽气装置，其中所述抽气装置被可连通地连接于所述反应腔体；

一进料装置，其中所述反应腔体具有一进料口，所述进料口连通所述反应腔，所述进料装置连通所述进料口；以及

一可运动支架装置，其中所述可运动支架装置被容纳于所述反应腔，其中所述可运动支架装置包括至少一电极和一可运动支架，其中所述可运动支架被可绕第一轴线转动地安装于所述反应腔体，所述第一轴线为所述可运动支架的中心轴线，其中至少一个所述电极被布置在所述第一轴线周围，被可跟随所述可运动支架一同绕所述第一轴线转动地设置于所述可运动支架，其中至少一待镀膜工件适于被保持于所述可运动支架，布置在所述第一轴线周围，随着所述可运动支架的转动绕所述第一轴线转动。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中至少一个所述电极位于所述可运动支架的周向方向。

3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中至少一个所述电极具有一放电表面，其中所述放电表面朝向的方向被设置为朝向所述可运动支架的中心轴线。

4.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中至少一个所述电极具有一放电表面，其中所述放电表面朝向的方向被设置为朝向该待镀膜工件。

5.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中至少一个所述电极位于所述可运动支架的径向方向。

6.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中所述镀膜设备进一步包括设置于所述可运动支架的至少一载台，其中该待镀膜工件适于被放置于所述载台并且所述载台被可相对于所述可运动支架具有相对运动地安装于所述可运动支架，以使得所述电极相对于该待镀膜工件具有相对运动。

7.根据权利要求6所述的镀膜设备，其中至少一所述电极位于相邻的所述载台之间。

8.根据权利要求7所述的镀膜设备，其中位于相邻的所述载台之间的各个所述电极朝向的方向为朝向所述载台。

9.根据权利要求8所述的镀膜设备，其中相邻的两个所述电极形成一V形结构，并且V形开口朝外，其中两个所述电极分别对应朝向相邻的两个所述载台。

10.根据权利要求6所述的镀膜设备，其中所述电极具有一放电表面，所述可运动支架被设置有与各个所述电极相对设置的至少一导电板，其中所述导电板具有一导电面，并且形成夹角的相邻的两个所述导电板的所述导电面和相对设置的所述电极的所述放电表面形成一个三角放电区。

11.根据权利要求6所述的镀膜设备，其中至少一所述电极位于多个所述载台的内侧，以作为至少一内侧电极。

12.根据权利要求6所述的镀膜设备，其中至少一所述电极沿着所述可运动支架的圆周方向布置并位于相邻的两个所述载台之间，以作为至少一外侧电极。

13.根据权利要求11所述的镀膜设备，其中至少一所述电极沿着所述可运动支架的圆周方向布置并位于相邻的两个所述载台之间，以作为至少一外侧电极。

14.根据权利要求6所述的镀膜设备，其中所述可运动支架被可绕其中心的第一轴线转动地安装于所述反应腔体。

15.根据权利要求8所述的镀膜设备，其中所述载台被可绕其中心的第二轴线转动地安装所述可运动支架并且所述第二轴线位于第一轴线的周侧，其中所述可运动支架被可绕其中心的所述第一轴线转动地安装于所述反应腔体。