[发明专利]载片单元

说明书

本发明提供了一种应用于半导体处理设备的载片单元，包括本体部和用于收容待处理衬底的若干基片承载部。所述基片承载部由位于所述本体部上相对设置的第一基片承载面与第二基片承载面以及形成于所述第一基片承载面与所述第二基片承载面之间的第三面围设形成，即所述第一基片承载面、所述第二基片承载面以及所述第三面均不具有能够造成所述待处理衬底的待处理表面被遮挡的卡锁或固定结构，避免了镀膜不均的问题，同时所述载片单元旋转到第一位置时，所述第一基片承载面承载所述待处理衬底的第一面，当所述载片单元旋转到第二位置时，所述第二基片承载面承载所述待处理衬底的第二面，避免了重复装片，有利于提高生产效率和良率。

技术领域

本发明涉及晶硅太阳能电池制造技术领域，尤其涉及一种载片单元。

背景技术

晶硅太阳能电池是光伏行业的主导产品，通过优化其生产工艺和结构，目前已经研制出了诸如钝化发射极背场点接触电池(Passivated Emitter and Rear Cell，PERC)、钝化发射极背接触电池(Passivated Emitter Solar Cell，PESC)以及钝化发射极背部局域扩散(Passivated Emitter and Rear Locally-diffused，PERL)电池等高效电池，光电转化效率均能接近20％甚至高于20％，具有良好的应用前景。

随着晶硅太阳能电池在光电转化效率上的突破，从产业化应用的角度讲，提高设备的产能以及产品的良率是至关重要的。现有技术中用于装载硅片的石墨舟的舟片表面设置有对硅片起固定作用的卡点，先将硅片插入石墨舟并通过卡点将硅片固定在石墨舟表面，然后再将装载有硅片的石墨舟送入工艺腔中。在这种情况下，卡点的遮挡容易造成硅片对应位置的镀膜不均，影响电池的光电转换效率。另外，当需要对硅片进行翻面，需要先对工艺腔进行降温，然后再将石墨舟移出镀膜设备后再对硅片进行翻面和重新装片，最后重新送入工艺腔内，使得工艺流程繁琐，不利于提高生产效率。更重要的是，对硅片的重复装片容易影响产品的良率，不利于光电转化效率的提高。

因此，需要开发一种新型的载片单元以避免现有技术中存在的上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种应用于半导体处理设备的载片单元，以避免镀膜不均以及由于在工艺腔外进行硅片的重复装片，使得工艺流程繁琐而不利于提高生产效率以及容易影响良率的问题。

本发明所述的半导体处理设备，包括管式沉积腔体、气体供应单元和移动单元，所述移动单元用于移动所述载片单元进入或离开所述管式沉积腔体。

为实现上述目的，本发明的所述载片单元包括本体部以及形成于所述本体部的若干基片承载部，所述基片承载部用以收容待处理衬底，所述基片承载部由位于所述本体部上相对设置的第一基片承载面与第二基片承载面以及形成于所述第一基片承载面与所述第二基片承载面之间的第三面围设形成，在所述载片单元旋转到第一位置时，所述基片承载部的第一基片承载面承载所述待处理衬底的第一面，当所述载片单元旋转到第二位置时，所述基片承载部的第二基片承载面承载所述待处理衬底的第二面。

本发明所述载片单元的有益效果在于：所述载片单元的用以收容所述待处理衬底的基片承载部由位于所述本体部上相对设置的第一基片承载面与第二基片承载面以及形成于所述第一基片承载面与所述第二基片承载面之间的第三面围设形成，即所述第一基片承载面、所述第二基片承载面和所述第三面都不具有能够造成所述待处理衬底的待处理表面被遮挡的卡锁或固定结构，避免了镀膜不均的问题，所述待处理表面为所述待处理衬底的第一面或第二面的任意一种或多种。当所述载片单元旋转到第一位置时，所述基片承载部的第一基片承载面承载所述待处理衬底的第一面，当所述载片单元旋转到第二位置时，所述基片承载部的第二基片承载面承载所述待处理衬底的第二面，避免由于在工艺腔外进行硅片的重复装片，使得工艺流程繁琐而不利于提高生产效率以及容易影响良率的问题。