[发明专利]一种高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法及其产品在审

专利信息
申请号: 201910897562.3 申请日: 2019-09-23
公开(公告)号: CN110437760A 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 孙攀;王健;牛建超 申请(专利权)人: 上海精珅新材料有限公司
主分类号: C09J7/38 分类号: C09J7/38;C09J7/40;C09J11/04
代理公司: 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 代理人: 董梅
地址: 201507 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 剥离力 压敏胶层 制程 高温环境 膜生产 基材 残胶现象 电晕处理 工艺过程 光学薄膜 光引发剂 吸收波长 成品率 离型膜 纳米晶 粘膜 电晕 降粘 胶层 模组 涂覆 覆盖 应用
【权利要求书】:

1.一种高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法,过程膜包括:基材(1)、压敏胶层(2)、离型膜(3),其特征在于,

所述基材(1)为厚度25-200μm的PET、PO、PVC或PP光学薄膜,其中一面经过电晕处理后,在室温或40-60℃高温放置不少于3天,以便电晕产生的臭氧分解,防止对后段生产产生影响;

所述压敏胶层(2)为UV降粘胶层,包含压敏胶层(2)质量的0.1—5%吸收波长在200—400nm内光引发剂和0.5—10%纳米晶珠,所述压敏胶层(2)涂覆于基材(1)的电晕面上并覆盖离型膜(3),UV前剥离力为500—5000g/25mm、UV后的剥离力为0—100g/25mm;

所述压敏胶层(2)与离型膜(3)的离型面进行覆合后,进行熟化。

2.如权利要求1所述的高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法,其特征在于:所述压敏胶层(2)的厚度为3—30μm。

3.如权利要求1或2所述的高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法,其特征在于:所述压敏胶层(2)中纳米晶珠为纳米级石墨晶珠或纳米级玻璃晶珠,在45℃—120℃内体积随温度变化线性膨胀或缩小。

4.如权利要求1所述的高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法,其特征在于:所述熟化时间为3—10天,放置环境为室温或40-60℃高温,待剥离力稳定后,即熟化完成。

5.如权利要求1所述的高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法,其特征在于:所述离型膜(3)为厚度25—150um的PET离型膜。

6.如权利要求1或5所述的高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法,其特征在于:所述基材(1)表面及离型膜(3)的背面表面张力≥48dyn。

7.一种高温后粘着力稳定的制程用的过程膜,根据权利要求1至6所述的任一生产方法得到的。

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