[发明专利]用于处理光辐射的装置

权利要求书

1.一种用于处理光辐射(108)的装置(100；200)，包括至少两个光学反射元件(102，104)，光学反射元件(102，104)中的至少一个形成具有多个被称为校正位置的位置的校正元件，每个实现所述光辐射的反射或透射，并且其表面是不规则的，使得所述校正位置(116)的空间相位轮廓对于所述校正位置(116)的多个不同的反射/透射点具有不同的相移，并且所述校正位置(116)中的至少两个具有不同的相位轮廓，所述装置的特征在于：

-所述至少两个光学反射元件限定多通过腔体，所述多通过腔体布置成使得所述光辐射(108)在所述两个光学反射元件(102，104)之间进行多次往返，使得每个光学反射元件在不同的反射位置处反射所述光辐射(108)至少四次；

-所述多通过腔体不包括由透镜或偏振元件组成的任何中间光学元件。

2.根据权利要求1中的任一项所述的装置，其特征在于，所述装置包括与限定多通过腔体的光学反射元件分别对应的至少两个校正元件。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述校正位置中的至少两个具有相同的相位轮廓。

4.根据权利要求1所述的装置(100；200)，其特征在于，至少一个光学校正元件(102)包括在至少一个校正位置(116)处的至少一个相位板。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，至少一个校正元件(102)包括对至少两个校正位置(116)具有至少两个空间相位轮廓的单个相位板。

6.根据权利要求1所述的装置(200)，其特征在于，限定多通过腔体(106)的光学反射元件(102，104)沿着相互垂直的两个方向(202，204)布置，所述装置(200)还包括以相对于所述光学反射元件(102，104)中的每个的方向(202，204)成45°的角度布置在所述光学反射元件(102，104)对面的镜(206)。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述校正位置的不规则性具有所述校正位置的总尺寸的至多五分之一的空间结构。

8.一种用于通过一系列传播来处理光辐射(108)的系统，包括：

-根据权利要求1所述的校正装置(100；200)；

-用于使所述光辐射(108)入射到所述校正装置中的部件；以及

-用于在所述装置的输出处采集所述光辐射(108)的部件。