[发明专利]一种保持环

说明书

本发明公开了一种保持环，包括第一环形部及第二环形部，所述第一环形部由金属材料制成，所述第二环形部由非金属材料制成，所述第一环形部的至少一面与第二环形部紧贴固定。

技术领域

本发明属于化学机械抛光技术领域，具体而言，涉及一种保持环。

背景技术

化学机械抛光是一种可接受的基板全局抛光的方法。这种抛光方法通常将基板吸合于承载头的下部，基板具有沉积层的底面抵接于旋转的抛光垫，承载头在驱动部件的带动下与抛光垫同向旋转并给予基板向下的载荷；同时，抛光液供给于抛光垫与基板之间，在化学及机械的共同作用下实现基板的减薄。

承载头的下部设置有保持环，其在基板抛光中具有重要作用。一方面，其可以防止抛光过程的基板从承载头的底部飞出；另一方面，保持环的底部设置有沟槽，其可以更新基板与抛光垫之间的抛光液；再者，保持环抵压于抛光垫参与基板边缘压力的调整，有利于实现基板的全局平坦化。

现有的保持环一般包括金属部件及非金属部件，两者通过粘接剂胶合为一体，金属部件与承载头的基座连接，非金属部分与旋转的抛光垫抵接。金属部件与非金属部件的胶合存在分离的风险，并且，粘接剂的胶合工序增加了保持环的制造成本，影响基板化学机械抛光的成本。

因此，亟需设计一种保持环，解决现有技术中存在的技术问题。

发明内容

本发明旨在至少一定程度上解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明公开了一种保持环，包括第一环形部及第二环形部，所述第一环形部由金属材料制成，所述第二环形部由非金属材料制成，所述第一环形部的至少一面与第二环形部紧贴固定。

优选地，所述第一环形部的内侧面、外侧面、底面和/或顶面设置有卡合结构。

优选地，所述第一环形部的内侧面、外侧面、底面和/或顶面设置有纳米级微孔。

优选地，所述卡合结构为凹槽和/或凸起。

优选地，所述凹槽和凸起间隔设置于所述第一环形部的内侧面、外侧面、底面和/或顶面。

本申请公开的保持环，其有益效果：设计巧妙，结构稳定，加工制造成本低。

附图说明

通过结合以下附图所作的详细描述，本发明的优点将变得更清楚和更容易理解，这些附图只是示意性的，并不限制本发明的保护范围，其中：

图1是根据本发明所述化学机械抛光装备的俯视图；

图2是根据本发明所述抛光单元的结构示意图；

图3是根据本发明所述承载头的结构示意图；

图4是根据本发明所述保持环一实施例的部件拆解图；

图5是图4对应保持环的剖视图；

图6是根据本发明所述保持环又一实施例的部件拆解图；

图7是图6对应保持环的剖视图；

图8是根据本发明所述保持环另一实施例的部件拆解图；

图9是图8对应保持环的剖视图；

图10是根据本发明之第一环形部的结构示意图；

图11是根据本发明所述保持环再一实施例的部件拆解图；

图12是图11对应保持环的剖视图；

图13是根据本发明所述保持环又一实施例的部件拆解图；

图14是图13对应保持环的剖视图；

图15及16是根据本发明所述保持环的加工制造流程图。