[发明专利]一种用于薄柔薄膜基底的固定平台

说明书

一种用于薄柔基底的固定平台，包括有基台，所述基台的表面设置有用于支撑薄柔基底的台面，所述台面区间内设置有用于薄柔基底涂布的涂布机，所述基台包括有涂布区以及位于所述涂布区两侧的固定区，所述固定区设置有若干个真空吸附孔，所述真空吸附孔连接有真空发生器，所述涂布机在所述涂布区内对薄柔基底进行涂布；薄柔基底平铺在台面上，真空吸附孔通过真空发生器产生的负压将位于固定区内的薄柔基底固定在固定区内，固定区设置在涂布区的两侧，从而使得涂布区内的薄柔基底平铺且薄柔基底的表面不会出现凹坑，从而保证对涂布区内的薄柔基底进行高精涂布过程中涂布厚度的均一性。

技术领域

本发明涉及印刷设备技术领域，具体涉及一种用于薄柔薄膜基底的固定平台。

背景技术

挤压式狭缝涂布方式以其精确的对涂布膜质可控性被广泛利用于新型薄膜太阳能电池，新型显示材料，光学功能膜，环保渗透膜等新型行业领域。而在向柔性片材表面涂布功能性材料程中，需要将基底固定在平台之上。现有技术通常是以真空吸附的方式，这种方式简洁，工业大生产可操作性强。

如图1所示，一种涂布基台，包括有基台，基台具有支撑基底的台面，在台面上开设有用于吸附基底的真空吸附孔。

当基底的厚度相对较厚(厚度＞100um)，因为真空吸附力较小，整体形变量相对基底厚度比较小，对于基底表面涂布功能层厚度的影响也很小；但是当基底的厚度小于50um，并且质地柔软的情况下，涂布基台在利用真空吸附方式固定基底的时候，真空吸附孔处基底材料不可避免的出现吸附变形现象，基底在真空吸附孔的作用下会出现凹坑，在此基础之上完成功能层的涂布，也就不可避免的出现涂布厚度差异，尤其是在光电薄膜类材料中，厚度差异型将导致功能性差异，现有技术存在改进之处。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提出了一种用于薄柔基底的固定平台，通过位于涂布区两侧的固定区实现固定平台上基底的固定，而将真空吸附孔设置在固定区内，避免了涂布区的基底产生形变，从而保证了薄柔基底在高精涂布过程中涂布厚度的均一性。

为达到上述目的，本发明的技术方案如下：一种用于薄柔基底的固定平台，包括有基台，所述基台的表面设置有用于支撑薄柔基底的台面，所述台面区间内设置有用于薄柔基底涂布的涂布机，所述基台包括有涂布区以及位于所述涂布区两侧的固定区，所述固定区设置有若干个真空吸附孔，所述真空吸附孔连接有真空发生器，所述涂布机在所述涂布区内对薄柔基底进行涂布。

通过采用上述技术方案，薄柔基底平铺在台面上，真空吸附孔通过真空发生器产生的负压将位于固定区内的薄柔基底固定在固定区内，固定区设置在涂布区的两侧，从而使得涂布区内的薄柔基底平铺且薄柔基底的表面不会出现凹坑，从而保证对涂布区内的薄柔基底进行高精涂布过程中涂布厚度的均一性。

本发明进一步设置为：所述涂布区设置有加热装置。

通过采用上述技术方案，由于涂布区内未开设真空吸附孔，从而使得在涂布区内可以设置对涂布区内的薄柔基底进行升温的加热装置，提高功能层在薄柔基底表面的凝固速度。

本发明进一步设置为：两所述固定区对称设置在所述涂布区的两侧。

通过采用上述技术方案，使薄柔基底受力更加均匀，保证涂布区内薄柔基底的平整度。

本发明进一步设置为：所述固定区与所述涂布区位于同一平面内。

通过采用上述技术方案，便于连续加工薄柔基底，保证薄柔基底在台面上滑动的流畅性。

本发明进一步设置为：所述固定区呈外凸的弧形结构，所述固定区的边缘与所述涂布区连接。

通过采用上述技术方案，弧形结构使薄柔基底在台面上更加舒展，提高涂布区内薄柔基底的平整度和舒展程度。

本发明进一步设置为：所述真空吸附孔与固定区的弧面相切。