[发明专利]一种对位掩膜板、掩膜板及制作方法

权利要求书

1.一种对位掩膜板，其特征在于，所述对位掩膜板包括对位主体，所述对位主体包括对位部和遮挡部，所述对位部与所述遮挡部一体成型，所述对位部与所述遮挡部之间设置有第一刻蚀线，所述对位部包括对位标记，所述对位标记用于所述对位掩膜板与掩膜框架对位，所述遮挡部用于遮挡待蒸镀基板上的非蒸镀区域。

2.根据权利要求1所述的对位掩膜板，其特征在于，所述对位部和所述遮挡部之间设置有第一刻蚀线。

3.根据权利要求2所述的对位掩膜板，其特征在于，所述第一刻蚀线至少部分为半刻蚀状态，

优选地，所述第一刻蚀线部分为全刻蚀状态；

优选地，所述第一刻蚀线全部为半刻蚀状态。

4.根据权利要求2所述的对位掩膜板，其特征在于，所述对位部包括对位区域，所述对位区域包括所述对位标记，其中，所述对位区域与所述遮挡部之间的所述第一刻蚀线为半刻蚀状态。

5.根据权利要求4所述的对位掩膜板，其特征在于，所述对位区域包括第一对位区域与第二对位区域，所述第一对位区域设置有第一对位标记，所述第二对位区域设置有第二对位标记，所述对位部还包括所述第一对位区域与所述第二对位区域之间的连接部，所述连接部用于连接所述第一对位区域与所述第二对位区域。

6.根据权利要求5所述的对位掩膜板，其特征在于，所述连接部与所述遮挡部之间的所述第一刻蚀线为全刻蚀状态；

优选地，所述第一对位区域与所述连接部之间以及所述第二对位区域与所述连接部之间均设置有第二刻蚀线。

7.根据权利要求5所述的对位掩膜板，其特征在于，所述第一对位区域远离所述第二对位区域的一侧以及所述第二对位区域远离所述第一对位区域的一侧设置有拉伸部，所述拉伸部与所述对位本体连接；

优选地，所述拉伸部与所述对位本体之间设置有第三刻蚀线；

优选地，所述遮挡部包括测试孔，所述测试孔贯穿所述遮挡部设置，用于在所述蒸镀基板上形成材料检测单元。

8.一种掩膜板的制作方法，其特征在于，包括：

提供掩膜框架；

通过对位部的对位标记将如权利要求1-5所述的对位掩膜板与所述掩膜框架进行对位；

将对位后的所述对位掩膜板和所述掩膜框架进行固定。

9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，在所述将对位后的所述对位掩膜板和所述掩膜框架进行固定之后包括：

沿所述第一刻蚀线对所述对位掩膜板进行切割，以时所述对位部和所述遮挡部沿所述第一刻蚀线分离；

优选地，在所述将对位后的所述对位掩膜板和所述掩膜框架进行固定之后包括：沿所述第二刻蚀线对所述掩膜板进行切割，和/或

沿所述第三刻蚀线对所述掩膜板进行切割。

10.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板根据权利要求8-9中任一项所述的方法得到，其中，所述掩膜框架包括中空区以及围绕所述中空区设置的框架本体，所述遮挡部包括与所述框架本体重叠的第一重叠区，且所述遮挡部包括与所述中空区重叠的第二重叠区，所述第二重叠区包括贯穿所述遮挡部设置的测试孔。