[发明专利]在光学系统中的元件的曝光期间确定曝光能量的装置

权利要求书

1.一种光学检验设备，包括：

光源；

照明光学单元，配置为将来自所述光源的光朝向第一元件投射；

检测器单元；

成像光学单元，配置为将来自所述第一元件的光朝向所述检测器单元投射；

曝光确定装置，设置在所述照明光学单元与所述第一元件之间，所述曝光确定装置包括：

第一光学元件；

衍射结构；以及

强度传感器布置；

其中所述曝光确定装置配置为使得，在所述设备的操作期间、以至少一级衍射在所述衍射结构处衍射的光通过所述第一光学元件中的全内反射被指引到所述强度传感器布置。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一元件为掩模，所述设备是掩模检验设备，并且所述曝光确定装置配置为评估在所述掩模的检验期间施加至所述掩模的曝光能量。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述衍射结构具有局部变化的光栅周期。

4.根据权利要求3所述的设备，其中，光学系统具有光学系统轴线(OA)，其中所述光栅周期随距所述光学系统轴线(OA)的距离增加而减小。

5.根据权利要求3所述的设备，其中，所述衍射结构被实施在所述第一光学元件的光入射表面上。

6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述衍射结构仅被实施在所述光入射表面的部分区域上。

7.根据权利要求3所述的设备，其中，所述衍射结构具有关于一方向彼此不同的多个衍射光栅，在所述方向上由相关的衍射光栅指引同一级衍射。

8.根据权利要求3所述的设备，其中，所述强度传感器布置具有多个强度传感器。

9.根据权利要求3所述的设备，其中，所述强度传感器布置具有至少一个空间分辨的强度传感器。

10.根据权利要求3所述的设备，其中，所述衍射结构具有至少一个相位光栅。

11.根据权利要求1所述的设备，其中，所述设备是掩模检验设备。

12.根据权利要求1所述的设备，其中，所述设备是微光刻投射曝光设备。

13.根据权利要求3所述的设备，其中，所述衍射结构设置在所述第一光学元件上。

14.根据权利要求3所述的设备，其中，所述衍射结构设置在分离部件上，所述分离部件在用于曝光所述第一元件的光的路径上设置在所述第一光学元件的上游。

15.根据权利要求14所述的设备，其中，所述衍射结构设置在所述分离部件的辐射出射表面上。

16.根据权利要求3所述的设备，其中，所述设备配置为使用光曝光所述第一元件，并且所述衍射结构配置为朝向所述强度传感器布置衍射所述光的第一部分且允许所述光的第二部分通过所述衍射结构并朝向所述第一元件行进以曝光所述第一元件。

17.根据权利要求1所述的设备，其中，所述设备配置为执行：

沿着传播路径朝向所述第一元件投射光；

将所述第一光学元件和所述衍射结构设置在所述传播路径中所述第一元件的上游，其中所述衍射结构具有局部变化的光栅周期；以及

确定由于所述光施加至所述第一元件的曝光能量，包括：

以至少一级衍射衍射所述光的一部分；以及

通过在所述光学元件中实现的全内反射将所衍射的光指引至强度传感器布置。

18.根据权利要求17所述的设备，其中，所述设备配置为执行朝向多个方向指引所衍射的光的与同一级衍射相关联的多个部分。