[发明专利]一种保偏光纤的制备方法

权利要求书

1.一种保偏光纤的制备方法，其特征在于：具体包括以下步骤：

1)保偏光棒的制作，该保偏光棒从内向外依次包括纤芯(1)、内包层(2)、应力层(3)、外包层(4)和基管层(5)；

2)在保偏光棒外进行套管的套棒制作，制成成品光棒；

3)将成品光棒进行拉丝成光纤。

2.如权利要求1所述的保偏光纤的制备方法，其特征在于：所述步骤1)中保偏光棒的制作，具体包括：

1.1基管预处理；

1.2在基管内进行各个层的沉积；

1.3对基管进行正向塌缩和反向塌缩，使得应力层挤压变形，并且制成实心的保偏光棒；

1.4对保偏光棒进行抛光，制成保偏光棒。

3.如权利要求1所述的保偏光纤的制备方法，其特征在于：所述步骤2)中在保偏光棒外进行套管的套棒制作，制成成品光棒，具体包括：

2.1将保偏光棒连接第一把手，并且酸洗清洁表面；

2.2将套管连接第二把手，并且酸洗清洁内、外表面；

2.3将保偏光棒的第一端固定并且校直；

2.4将套管的第二端固定并且校直；

2.5将保偏光棒插入套管，并且端面封锥；

2.6将套管和保偏光棒之间抽负压；

2.7将套管和保偏光棒塌缩成实心棒体；

2.8抛光，将实心棒体抛光成成品光棒。

4.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于：上述步骤1.2中，具体的沉积工序依次为外包层沉积、应力层沉积、内包层沉积和纤芯的沉积。

5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于：所述应力层沉积工序之后，内包层沉积工序之前，还包括进行定向刻蚀步骤，使应力层不被完全刻透。

6.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于：所述定向刻蚀步骤为，基管固定不动，在基管内通入含有氟的腐蚀性气体，在基管外用火沿基管的轴向来回移动进行蚀刻。

7.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于：上述步骤1.3中，所述正向塌缩的遍数为4-6遍，正向塌缩后，反向塌缩一遍。

8.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于：上述步骤2.6和2.7中，负压的范围为50mbar-200mbar，塌缩的灯头移动速度为5mm/min-10mm/min。