[发明专利]一种晶片自动腐蚀喷淋设备

权利要求书

1.一种晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，包括控制器、工作箱、晶片固定架以及与控制器电连接的药液泵组、冲刷装置和冲洗装置，所述晶片固定架设置于工作箱内用于固定放入工作箱中的晶片，所述药液泵组与工作箱连接用于向工作箱内泵送药液，所述工作箱开设有排液口用于排出药液，所述冲刷装置安装于工作箱用于使工作箱的药液流动形成药液流冲刷晶片，所述冲洗装置安装于工作箱用于向晶片喷淋冲洗液清洗晶片。

2.根据权利要求1所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，所述冲刷装置包括一端开口的喷淋管和用于向喷淋管输送药液或冲洗液的冲刷泵组，所述喷淋管沿圆周方向开设有若干喷淋口，所述喷淋口沿喷淋管轴向方向延伸，所述冲刷泵组连接有输液管，所述喷淋管与输液管连通且转动连接。

3.根据权利要求2所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，所述冲刷泵组的进液端连接于工作箱内，所述冲刷泵组的出液端通过输液管与喷淋管连通。

4.根据权利要求2所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，所述喷淋口沿喷淋管径向方向向外呈弧形设置。

5.根据权利要求2所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，所述冲刷装置还包括导液管，所述导液管与输液管连通，所述导液管从喷淋管的开口端套入喷淋管并与喷淋管之间形成喷淋间隙，所述喷淋管设有内腔，所述内腔与导液管开口端相对的一侧壁设有用于受到冲击带动喷淋管转动的驱动部，所述导液管、内腔、喷淋间隙与喷淋口依次连通。

6.根据权利要求5所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，所述内腔安装有稳定架，所述稳定架设有导流斜面，用于使导液管中喷出的液体撞击内腔的内壁后反射时通过导流斜面向内腔四周扩散。

7.根据权利要求6所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，所述稳定架设有锥形套管，所述锥形套管的外侧面形成所述导流斜面，所述导液管的出液端内置于锥形套管内。

8.根据权利要求2所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，所述冲刷装置还包括用于驱动喷淋管周向转动的驱动机构。

9.根据权利要求8所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，所述驱动机构包括第一吸附件、第二吸附件、摆动磁体和电源，所述第一吸附件和第二吸附件分别设置于摆动磁体的两端，所述摆动磁体与喷淋管固定连接且绕喷淋管轴线摆动，所述电源分别与第一吸附件和第二吸附件电连接，所述控制器与电源通讯连接。

10.根据权利要求2所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，还包括冲洗液箱，所述冲洗液箱通过冲刷泵组与喷淋管连接。

11.根据权利要求1所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，还包括用于存放药液的药液箱，所述工作箱分别通过药液泵组和排液口与药液箱连通。

12.根据权利要求1所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，还包括药液配比装置，所述药液配比装置包括若干原料罐以及与所述原料罐数量对应的若干计量泵，所述原料罐通过计量泵与药液箱连接，所述计量泵与控制器电连接。

13.根据权利要求1所述的晶片自动腐蚀喷淋设备，其特征在于，所述冲洗装置包括冲洗泵以及若干设置于工作箱上用于向工作箱内的晶片喷射冲洗液的冲洗管，所述冲洗泵与控制器电连接。