[发明专利]一种基于形态分析的转基因大豆快速鉴别优化模型

权利要求书

1.基于形态分析的转基因大豆快速鉴别优化模型的建立方法，其中，

a)对于整粒大豆，选取9403-5438cm^-1特征波段下的光谱信息，采用二阶导数对光谱进行预处理，采用偏最小二乘-判别法建立PLS-DA模型；或者，

b)对于粉末状大豆，选取7505-4597cm^-1特征波段下的光谱信息，采用矢量归一化+一阶导数对光谱进行预处理，采用偏最小二乘-判别法建立PLS-DA模型。

2.根据权利要求1所述的建立方法，其中，所述粉末状大豆的粒径为0.4-0.5mm，优选为0.45mm。

3.根据权利要求1或2所述的建立方法，其中，在所述采用偏最小二乘-判别法建立PLS-DA模型前，还包括利用主成分分析检测光谱异常值从而剔除异常样品的步骤。

4.根据权利要求1-3任一项所述的建立方法，还包括采用留一法交叉验证，用于校准。

5.根据权利要求1-3任一项所述的建立方法，包括以下步骤：

1)收集不同种类的转基因大豆和非转基因的大豆样品；

2)将步骤1)的整粒大豆样品进行近红外光谱扫描，采集其近红外光谱；

或者，将步骤1)的整粒大豆样品制成粒径为0.4-0.5mm的粉末状大豆样品，再对其进行近红外光谱扫描，采集其近红外光谱；

3)对于整粒大豆，选取9403-5438cm^-1特征波段下的光谱信息，采用二阶导数对光谱进行预处理；利用主成分分析法检测光谱异常值从而剔除异常样品；采用留一法交叉验证，采用偏最小二乘-判别法建立PLS-DA模型；

或者，对于粉末状大豆，选取7505-4597cm^-1特征波段下的光谱信息，用矢量归一化+一阶导数对光谱进行预处理，利用主成分分析法检测光谱异常值从而剔除异常样品；采用留一法交叉验证，采用偏最小二乘-判别法建立PLS-DA模型。

6.权利要求1-5任一项所述方法的建立的PLS-DA模型。

7.权利要求6所述PLS-DA模型在近红外光谱快速鉴别转基因大豆中的应用。

8.一种近红外光谱快速鉴别转基因大豆的方法，包括以下步骤：

1)收集不同种类的转基因大豆和非转基因的大豆样品；

2)将步骤1)的整粒大豆样品进行近红外光谱扫描，采集其近红外光谱；

或者，将步骤1)的整粒大豆样品制成粒径为0.4-0.5mm的粉末状大豆样品，再对其进行近红外光谱扫描，采集其近红外光谱；

3)对于整粒大豆，选取9403-5438cm^-1特征波段下的光谱信息，采用二阶导数对光谱进行预处理；利用主成分分析法检测光谱异常值从而剔除异常样品；采用留一法交叉验证，采用偏最小二乘-判别法建立PLS-DA模型；

或者，对于粉末状大豆，选取7505-4597cm^-1特征波段下的光谱信息，用矢量归一化+一阶导数对光谱进行预处理，利用主成分分析法检测光谱异常值从而剔除异常样品；采用留一法交叉验证，采用偏最小二乘-判别法建立PLS-DA模型；

4)对于未知的大豆样品，采用步骤1)-3)相同的方法采集其近红外光谱，利用步骤3)建立好的PLS-DA模型，预测其所属类别。

9.根据权利要求8所述的近红外光谱快速鉴别转基因大豆的方法，其中，所述粉末状大豆样品的粒径为0.45mm。