[发明专利]一种提高真空镀膜收得率的真空镀膜装置

说明书

本发明公开了一种提高真空镀膜收得率的真空镀膜装置，所述真空镀膜装置位于钢板的下方，包括坩埚，其外侧设有感应加热器，所述坩埚顶部通过蒸汽管道连有布流箱体，所述蒸汽管道上设有调压阀，所述布流箱体内设有一水平向的稳压板，所述布流箱体顶部连有喷嘴，所述喷嘴顶部的两侧窄面上布置有导流板；所述喷嘴出口至所述钢板的距离Da为10～200mm；所述导流板的高度Db为10～199mm；所述导流板顶部至所述钢板的距离Dc为1～190mm；所述导流板与所述喷嘴出口之间的夹角Dd为60°～135°。本发明提高镀膜过程中的收得率，并形成均匀一致的镀层。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，更具体地说，涉及一种提高真空镀膜收得率的真空镀膜装置。

背景技术

物理蒸发镀(PVD)是指在真空条件下加热被镀金属，使之以气态的方式沉积到基材上形成镀膜的工艺技术。根据加热方式的不同又分为电加热(电阻或感应式)和电子束枪加热(EBPVD)等。真空镀膜作为表面改性和镀膜工艺，已经在电子、玻璃、塑料等行业得到了广泛的应用，真空镀膜技术主要优点在于其环保、良好的镀膜性能和可镀物质的多样性。连续带钢运用真空镀膜技术的关键在于镀膜生产连续化、大面积、高速率、大规模生产等几个方面，从上世纪八十年代开始，世界各大钢铁公司都对此技术进行了大量的研究，随着热镀锌和电镀锌技术的成熟，该技术正在受到空前的重视，并被人为是创新型的表面镀膜工艺。

而在真空镀膜的过程中关键点就是如何通过喷嘴的布置得到厚度均匀一致的镀层。国外目前公开的资料中，主要包含以下几个方面：

1)蒸发坩埚与布流喷嘴一体式结构

欧洲专利BE1009321A6、BE1009317A61分别公开了如图1、图2的坩埚喷嘴结构，在图1的结构中，坩埚1上部加上盖2，使得上盖2和炉壁之间形成喷嘴结构，用于蒸发金属的直接喷射。在图2的结构中，则在蒸发坩埚中添加过滤板3，而后由顶部的狭缝喷嘴用于金属蒸汽的喷射。在这两个装置喷嘴的设计过程中，一个采用了拉瓦尔喷嘴结构，另一个采用了收缩喷嘴，而喷嘴的朝向位置一个是侧向喷射，另一个是垂直喷射。

在专利JPS59177370A、US4552092A中亦公开了相关蒸发坩埚及喷嘴结构，图3给出了一种带自动补充金属液的坩埚喷嘴结构，喷嘴4采用较宽的出口，在坩埚上部也布置了加热器5用于蒸汽等的加热。图4给出的坩埚喷嘴结构中其结构由一侧弧形6展开，侧向喷射，在坩埚壁的外侧同样布置了加热管7用于壁面的加热。

2)蒸发坩埚与布流喷嘴分体式结构

在专利WO2018/020311A1公布了一种分体式坩埚喷嘴结构，如图5所示，在该装置中，坩埚在底部连接一个金属液供给槽8，其上部通过分体式管道9将金属蒸汽送至管状的分配器和前端的蒸汽喷嘴中，而后金属蒸汽通过喷嘴以高速将蒸汽喷射至金属板材。

在专利CN103249860A公开了一种分体式布流器及喷嘴结构，如图6所示，通过一个管道将蒸汽送至上部水平管道10中，水平管道10顶部具有多孔喷嘴，用以将金属蒸汽均匀的喷涂在金属板材表面。

在专利CN101175866A公开了一种金属蒸汽布流器及喷嘴形式，如图7所示了喷嘴的截面形式，布流器管道11外部缠绕导线从而实现对管道的加热，喷嘴部分为方形外壳，如图8所示，方形外壳12内部嵌套了另一种材质的环形管道，用于金属蒸汽的喷射，喷嘴使用的蒸汽出口形式为多孔式。

上述这些专利都涉及到了在镀膜过程中喷嘴的具体形式，但是并不能表明利用这些喷嘴进行的镀膜都能达到均匀的程度，此外对于喷嘴镀膜过程中的收得率并没有关注。

发明内容

针对现有技术中存在的上述缺陷，本发明的目的是提供一种提高真空镀膜收得率的真空镀膜装置，提高镀膜过程中的收得率，并形成均匀一致的镀层。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：