[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其中，

该基板处理装置具备：

旋转台，其具有保持基板并使该基板旋转的顶板；

旋转驱动机构，其使所述旋转台绕旋转轴线旋转；

处理液喷嘴，其向保持于所述旋转台的所述基板的上表面供给处理液；

电加热器，其设置于所述顶板，隔着所述顶板对所述基板进行加热；

电气部件，其设置于所述顶板的下表面侧，接收或发送用于向所述电加热器的供电和所述电加热器的控制的信号；以及

周缘罩体，其与所述顶板的周缘部连接，与所述顶板一起旋转，

在所述顶板的下方形成有收纳所述电气部件的收纳空间，所述收纳空间被包括所述顶板和所述周缘罩体的包围构造物包围，所述顶板的周缘部与所述周缘罩体之间被密封。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置还具备非活性气体供给部，该非活性气体供给部为了使所述收纳空间为非活性气体气氛而向所述收纳空间供给非活性气体。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述周缘罩体中的、与所述顶板连接的连接部形成围堰，该围堰从所述顶板的周缘部的上表面立起，并且包围被保持在所述顶板的所述基板的周围，所述围堰的高度比保持到所述顶板的所述基板的上表面的高度高，利用所述顶板和所述围堰，能够积存可浸渍被保持到所述顶板的所述基板的量的处理液。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

所述围堰具有以随着靠近所述顶板的中心部而变低的方式倾斜的朝向斜上方的内周面。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述周缘罩体的外周面以随着朝向下侧去而去往半径方向外侧的方式倾斜。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，

对所述周缘罩体的所述外周面实施了疏水化处理。

7.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置还具备旋转杯，该旋转杯固定于所述旋转台并与所述周缘罩体一起旋转，所述旋转杯的上端位于能够接住从所述基板经由所述围堰飞散的处理液的高度，在所述周缘罩体的外周面与所述旋转杯的内周面之间形成有供从所述基板经由所述围堰飞散的处理液经过的通路，所述旋转杯的内周面以随着朝向下侧去而去往半径方向外侧的方式倾斜。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中，

用于防止所述处理液在所述通路内倒流的回流件设置于所述周缘罩体的所述外周面和所述旋转杯的所述内周面中的至少一者。

9.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

所述周缘罩体构成为能够从所述顶板拆卸，

在所述周缘罩体的所述围堰的部分与所述顶板之间设置有密封构件。

10.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

所述顶板具有：底座，其设置有所述电加热器；和吸附板，其以能够拆装的方式载置于所述底座的上表面，且具有用于吸附所述基板的上表面，所述周缘罩体的所述围堰覆盖在所述吸附板的所述上表面的周缘部而将所述吸附板固定于所述底座。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，

所述吸附板的上表面具有环状的外周缘区域，对所述吸附板的所述上表面的所述外周缘区域中的、从位于至少所述周缘罩体的所述围堰的下方的部分到位于吸附于所述吸附板的所述基板的周缘部的下方的部分之间的部分实施了疏水化处理。

12.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，

所述周缘罩体还具有环状的内侧延长部分，该环状的内侧延长部分从所述围堰延伸到吸附于所述吸附板的所述基板的周缘部的下方，对所述内侧延长部分的上表面实施了疏水处理。