[发明专利]磷酸刻蚀溶液有效
| 申请号： | 201910917946.7 | 申请日： | 2019-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN110684535B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 徐融;苏界;孙文斌 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 董琳;高翠花 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磷酸 刻蚀 溶液 | ||
1.一种磷酸刻蚀溶液，其特征在于，包括磷酸刻蚀剂及硅刻蚀抑制剂，所述硅刻蚀抑制剂包括还原性添加剂，所述还原性添加剂具有还原性基团，所述还原性基团能够与磷酸刻蚀溶液中溶解的氧结合而消耗掉磷酸刻蚀溶液中的溶解氧原子。
2.根据权利要求1所述的磷酸刻蚀溶液，其特征在于，所述还原性基团为醛基。
3.根据权利要求1所述的磷酸刻蚀溶液，其特征在于，在所述磷酸刻蚀溶液中，所述还原性添加剂的质量分数大于1％。
4.根据权利要求1所述的磷酸刻蚀溶液，其特征在于，所述还原性添加剂的分解温度大于180摄氏度。
5.根据权利要求1所述的磷酸刻蚀溶液，其特征在于，所述硅刻蚀抑制剂还包括吸附剂，所述吸附剂能够与硅表面的氢氧根反应，进而吸附在硅表面形成保护层。
6.根据权利要求5所述的磷酸刻蚀溶液，其特征在于，所述吸附剂具有羟基基团。
7.根据权利要求6所述的磷酸刻蚀溶液，其特征在于，所述羟基基团为硅醇基上的羟基基团。
8.根据权利要求5所述的磷酸刻蚀溶液，其特征在于，在所述磷酸刻蚀溶液中，所述吸附剂的质量分数大于0.1％。
9.根据权利要求5所述的磷酸刻蚀溶液，其特征在于，所述吸附剂的分解温度大于180摄氏度。
10.根据权利要求5所述的磷酸刻蚀溶液，其特征在于，所述硅刻蚀抑制剂具有亲水性。
11.根据权利要求1所述的磷酸刻蚀溶液，其特征在于，所述磷酸刻蚀溶液的温度范围为140℃～180℃。
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