[发明专利]一种具有规则排布孔结构的石墨烯材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910918218.8 申请日: 2019-09-26
公开(公告)号: CN110877907A 公开(公告)日: 2020-03-13
发明(设计)人: 王春锐;陈星;邵俊峰;陈飞 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: C01B32/194 分类号: C01B32/194;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王洋
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 规则 排布 结构 石墨 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有规则排布孔结构的石墨烯材料,其特征在于,包括:

A)提供具有规则排布孔结构的模板材料;

B)在所述模板材料上复合石墨烯材料;

C)采用化学腐蚀或者激光处理的方式在石墨烯材料上制备具有规则排布的孔结构;

D)去除模板,得到具有规则排布孔结构的石墨烯材料。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述模板材料选自氧化铝模板、高分子模板、金属模板、二氧化硅模板和分子筛模板中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述模板材料的孔径为0.1nm~100nm;所述模板材料的排布方式为规则矩阵方式排布或六角网格结构。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述模板材料的制备方法选自电化学沉积、化学聚合、直接旋涂、物理沉积和自组装中的一种或者多种。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤B)所述复合方式具体为:将石墨烯用溶剂溶解后,旋涂于模板材料上。

6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述旋涂的转速为100~10000r/min;所述旋涂时间为10s~100s。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤C)所述化学腐蚀具体为采用KMnO4溶液腐蚀,所述KMnO4溶液浓度为0.01-1mol/L,腐蚀处理时间为0.1-100min;

所述激光处理参数具体为:激光功率为0.01~100w;处理时间为1~100s。

8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤D)所述去除模板的方法具体为:超声1~100s或者采用0.01~1mol/L的酸溶解1~100min去除。

9.一种具有规则排布孔结构的石墨烯材料,其特征在于,由权利要求1~9任意一项所述的制备方法制备得到。

10.根据权利要求9所述的具有规则排布孔结构的石墨烯材料,所述石墨烯材料孔道的直径为0.1nm~100nm。

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