[发明专利]彩膜基板及其制造方法、显示装置

说明书

本发明公开了一种彩膜基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该方法包括：在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形；采用遮光板遮挡黑矩阵图形，并在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，以使第二对位图形在透明衬底上的正投影与第一对位图形在透明衬底上的正投影错开；基于第二对位图形，在透明衬底的第二表面上形成光栅结构。由于该第二对位图形与后续需要形成的光栅结构位于透明衬底的同一侧，因此基于该第二对位图形，可以提高用于形成光栅结构的掩膜板与透明衬底的对位精度，进而提高了在透明基板的第二表面上形成的光栅结构的精度，使得通过该彩膜基板制备出的显示装置的防窥效果较好。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板及其制造方法、显示装置。

背景技术

为了避免诸如手机或平板电脑等显示装置所显示的内容被窥视，市面上出现一些具有防窥功能的显示装置。

目前，可以在显示装置的出光侧形成光栅结构，通过该光栅结构减小显示装置的可视角范围，以实现防窥功能。显示装置通常包括：相对的显示基板和彩膜基板，该光栅结构位于彩膜基板远离显示基板的一侧。通常情况下，光栅结构可以直接形成在彩膜基板中远离显示基板一侧的表面上，在形成光栅结构的过程中，需要将用于形成光栅结构的掩膜板与彩膜基板对位，在相关技术中，主要基于彩膜基板靠近显示基板一面上的对位图形将掩膜板与彩膜基板对位。

但是，由于彩膜基板中的透明衬底的厚度较大，基于彩膜基板靠近显示基板一侧上的对位图形将掩膜板与彩膜基板对位的对位精度较低，导致最终形成的光栅结构的精度较低，影响了显示装置的防窥效果。

发明内容

本发明实施例提供了一种彩膜基板及其制造方法、显示装置。可以解决现有技术的制造出的光栅结构的精度较低，影响了显示装置的防窥效果问题，所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种彩膜基板的制造方法，所述方法包括：

在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形；

采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并在所述透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，以使所述第二对位图形在所述透明衬底上的正投影与所述第一对位图形在所述透明衬底上的正投影错开；

基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构。

可选的，所述采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并在所述透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，包括：

在所述透明衬底的第二表面上形成第二遮光胶层；

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并对所述第二遮光胶层进行曝光；

对曝光后的第二遮光胶层进行显影，在所述透明衬底的第二表面上形成所述第二对位图形。

可选的，所述采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，对所述第二遮光胶层进行曝光，包括：

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并采用目标掩膜板和曝光源对所述第二遮光胶层进行曝光；

其中，所述遮光板位于所述曝光源与所述透明衬底的第二表面之间，所述目标掩膜板包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板上的遮光图形和透光图形，所述遮光图形的结构与所述第一对位图形的结构相同，所述透光图形的结构与所述黑矩阵图形的结构相同。

可选的，采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，对所述第二遮光胶层进行曝光，包括：

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并采用曝光源对所述第二遮光胶层进行曝光；

其中，所述遮光板位于所述曝光源与所述透明衬底的第一表面之间。

可选的，所述第二遮光胶层为负性胶层。