[发明专利]一种显示面板、及其制备方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201910919823.7 申请日: 2019-09-26
公开(公告)号: CN110649178B 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 黎倩;梁翠翠 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 金俊姬
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:衬底,所述衬底上具有多个呈阵列分布的重复单元,每个所述重复单元具有显示区域、透明区域、金属走线区域;

每个所述重复单元包括:

设于所述衬底上且位于所述显示区域内的TFT驱动层;

设于所述金属走线区域的金属走线;

设于所述TFT驱动层上的OLED器件层;

设于所述OLED器件层上、且覆盖整个所述重复单元的封装层;

设于所述封装层上且依次叠置的1/4λ相位差层和偏光层,所述偏光层位于所述1/4λ相位差层背离所述封装层的一侧,所述1/4λ相位差层和偏光层具有沿垂直于所述衬底的方向的开口,所述开口在所述衬底上的正投影位于所述透明区域内,且所述1/4λ相位差层和偏光层在衬底上的正投影覆盖所述显示区域和金属走线区域;

所述偏光层包括偏光材料层,所述偏光材料层中均掺有光敏材料;

所述1/4λ相位差层包括1/4λ聚合性液晶层,所述1/4λ聚合性液晶层中均掺有光敏材料。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述偏光材料层包括二色性染料和聚合性液晶。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述二色性染料与所述聚合性液晶物理混合;或者,

所述二色性染料通过支链嫁接与所述聚合性液晶分子连接。

4.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板,其特征在于,所述偏光材料层朝向所述1/4λ相位差层的一侧设有第一配向层,所述第一配向层中掺有光敏材料。

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述1/4λ聚合性液晶层与所述封装层之间设有第二配向层,所述第二配向层中掺有光敏材料。

6.一种显示装置,其特征在于,包括:如权利要求1-5任一项所述的显示面板。

7.一种如权利要求1-5任一项所述的显示面板的制备方法,其特征在于,包括:

在衬底上、且在显示区域形成TFT驱动层,并在所述金属走线区域形成金属走线;

在所述TFT驱动层上形成OLED器件层;

在所述OLED器件层上形成覆盖整个所述衬底的封装层;

在所述封装层上形成1/4λ相位差层,并对所述1/4λ相位差层进行图案化处理,将所述1/4λ相位差层中与所述透明区域对应的部位全部去除;

在所述图案化的1/4λ相位差层上形成偏光层,并对所述偏光层进行图案化处理,将所述偏光层中与所述透明区域对应的部位全部去除。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述在所述封装层上形成1/4λ相位差层,并对所述1/4λ相位差层进行图案化处理,将所述1/4λ相位差层中与所述透明区域对应的部位全部去除,具体包括:

在所述封装层上形成第一配向层,并采用紫外光照射对所述第一配向层进行配向;

在所述第一配向层上形成1/4λ聚合性液晶层;

对所述第一配向层和1/4λ聚合性液晶层进行曝光、显影处理,将所述第一配向层和1/4λ聚合性液晶层中与所述透明区域对应的部位全部去除。

9.根据权利要求7或8所述的制备方法,其特征在于,所述在所述图案化的1/4λ相位差层上形成偏光层,并对所述偏光层进行图案化处理,将所述偏光层中与所述透明区域对应的部位全部去除,具体包括:

在图案化的1/4λ相位差层上形成第二配向层,并采用紫外光照射对所述第二配向层进行配向;

在所述第二配向层上形成偏光材料层,所述偏光材料层包括二色性染料和聚合性液晶;

对所述第二配向层和偏光材料层进行曝光、显影处理,将所述第二配向层和偏光材料层中与所述透明区域对应的部位全部去除。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910919823.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top