[发明专利]一种环保型直接在易氧化金属镀膜的工艺在审
| 申请号： | 201910921053.X | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN110565061A | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 曾浩恩;谭天明 | 申请（专利权）人： | 宁波丽成真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315000 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 致密 偏压等离子体 等离子清洁 易氧化金属 装饰性 镀件夹具 金属玻璃 目标涂层 清洁 脱脂 保护层 抽真空 环保型 离子源 耐蚀性 疏水性 植入层 镀膜 | ||
1.一种环保型直接在易氧化金属镀膜的工艺，其特征在于，包括一下步骤：
工件脱脂清洁；
固定与镀件夹具；
抽真空；
偏压等离子体清洁；
离子源等离子清洁；
TFMG植入层；
TFMG保护层；
装饰性或功能性目标涂层。
2.根据权利要求1所述的一种环保型直接在易氧化金属镀膜的工艺，其特征在于，具体包括如下步骤：工件放入镀膜室中抽真空，启动工件转架旋转，待真空抽至3.0帕，启动加热起至适当温度，待真空度大6x10-3帕时，开始制程；加氩气至2帕，依序调整电压产生等离子做工件表面清洁，10-15分钟；接着开启离子源，做进一步的清洁与清除易氧化金属表面支氧化层；之后关闭离子源，通入氩气开启HIPIMS溅射源；同时启动镀件偏压，之后调降偏压，开始制作保护层；之后关闭HIPIMS溅射靶，再依照常规进行所需要的涂层，电弧靶或中频溅射靶。
3.根据权利要求2所述的一种环保型直接在易氧化金属镀膜的工艺，其特征在于，所述依序调整电压为400-800V。
4.根据权利要求2所述的一种环保型直接在易氧化金属镀膜的工艺，其特征在于，所述适当温度为0-200度。
5.根据权利要求2所述的一种环保型直接在易氧化金属镀膜的工艺，其特征在于，所述镀件偏压开始时高电场偏压为500-1000V，之后调降偏压至80-150V。
6.根据权利要求2所述的一种环保型直接在易氧化金属镀膜的工艺，其特征在于，所述保护层厚度约100-300nm。
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