[发明专利]一种刻蚀装置及刻蚀方法

权利要求书

1.一种刻蚀装置，其特征在于，包括：

氧化修饰单元，所述氧化修饰单元包括：第一腔室，设置在所述第一腔室内的第一监控组件，以及由所述第一监控组件进行监控的第一供给组件，所述第一供给组件与所述第一腔室连通；所述氧化修饰单元用于对晶片进行氧化处理；

刻蚀单元，所述刻蚀单元包括：第二腔室，设置在所述第二腔室内的第二监控组件，以及由所述第二监控组件进行监控的第二供给组件，所述第二供给组件与所述第二腔室连通；用于将经所述氧化修饰单元氧化后的所述晶片进行刻蚀处理；

清洁单元，所述清洁单元包括：第三腔室，设置在所述第三腔室内的第三监控单元，以及由所述第三监控单元进行监测的第三供给组件，第三供给组件与所述第三腔室连通；用于在经所述氧化修饰单元和/或所述刻蚀单元处理前，对所述晶片进行清洁处理；

传输单元，所述传输单元用于将所述晶片在所述第一腔室、第二腔室和第三腔室之间进行转移；

控制单元，所述控制单元分别与所述第一监控组件、第二监控组件、第三监控组件和传输单元连接，用于控制所述第一监控组件、第二监控组件和第三监控组件的工作状态，以及控制所述传输单元转移所述晶片；

其中，所述第三供给组件包括：清洁液储罐，所述清洁液储罐与所述第三腔室的入口连通，用于向所述第三腔室内添加清洁液；

杂质去除件，所述杂质去除件内承装有过滤筛和净化剂，所述杂质去除件的入口与所述第三腔室的出口连通，用于对所述第三腔室内的清洁液进行过滤和净化处理；

第二泵，所述第二泵的入口与所述杂质去除件的出口连通，所述第二泵的入口与所述第三腔室的入口连通，用于循环所述第三腔室和杂质去除件内的清洁液。

2.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述清洁单元还包括旋转组件，所述旋转组件包括旋转盘，一端与所述旋转盘底部连接的连接杆，以及与所述连接杆另一端连接的旋转电机，用于在清洁处理后将所述晶片甩干。

3.根据权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一供给组件包括氧化液储罐，以及与所述氧化液储罐出口连通的第一泵；所述第一泵的出口与所述第一腔室的入口连通，用于向所述第一腔室内添加氧化液。

4.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一监控组件包括：

第一液位监控件，所述第一液位监控件设置在所述第一腔室上部，并与所述第一泵连接；用于监测和调控所述第一腔室内的氧化液体积；

第一浓度监控件，所述第一浓度监控件设置在所述第一腔室内部，并与所述第一泵连接；用于监测和调控所述第一腔室内的氧化液浓度；

以及第一温度监控件，所述第一温度监控件包括第一温度检测件，以及和所述第一温度检测件连接的第一温度调控件，所述第一温度检测件设置在所述第一腔室内部；用于监测和调控所述第一腔室内的氧化液温度。

5.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一监控单元还包括厚度检测件，所述厚度检测件与所述控制单元连接，用于在线检测所述晶片上面膜层厚度，并向控制单元发送厚度信息。

6.根据权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述氧化修饰单元还包括第一超声震动件，所述第一超声震动件设置在所述第一腔室底部，用于搅拌氧化液。

7.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一泵与所述第一腔室之间设置有第一阀门。

8.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第三监控单元包括：

第二液位监控件，所述第二液位监控件设置在所述第三腔室上部，并与所述清洁液储罐连接；用于监测和调控所述第三腔室内的清洁液体积；

第二浓度监控件，所述第二浓度监控件设置在所述第三腔室内部，并与所述第二泵连接；用于监测和调控所述第三腔室内的清洁液浓度。

9.根据权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第二供给组件包括：刻蚀液储罐，以及与所述刻蚀液储罐出口连通的第三泵，所述第三泵的出口与所述第二腔室的进口连通；用于向所述第二腔室内添加刻蚀液。